鼓泡塔反应器
    1.
    发明公开
    鼓泡塔反应器 审中-实审

    公开(公告)号:CN116490264A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202280005712.5

    申请日:2022-07-05

    Abstract: 本发明提供一种鼓泡塔反应器,包括形成在下部的下室、形成在下室上部的液体反应区、形成在下室和反应区之间的分散板以及连接到下室以供应气态反应物的气体供应管,其中气体供应管包括延伸到下室中的喷射部,其中喷射部包括将气态反应物喷射到下室下侧的多个喷嘴。

    反应器清洗方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116323020A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202280005816.6

    申请日:2022-07-25

    Abstract: 本发明涉及一种反应器清洗方法。该方法包括使用加压气体将清洗溶剂容器加压至5kg/cm2.g至40kg/cm2.g;将清洗溶剂流从清洗溶剂容器供应到反应器的下部和侧部中的一个或多个,以填充反应器的内部;以及在将反应器的温度保持在115℃至200℃的同时,在清洗溶剂容器和反应器之间循环清洗溶剂流。

    反应溶液转移系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116249580A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202280005614.1

    申请日:2022-07-25

    Abstract: 本发明提供一种反应溶液转移系统,包括:反应器,其接收进料流并使其反应以形成反应溶液;反应器排出管,其设置在反应器的对应于反应器中反应溶液的表面高度的位置处的侧部上,并连接到沉淀罐以将反应溶液从反应器转移到沉淀罐;以及沉淀罐,其沉淀包含在反应溶液中的聚合物。

    用于制备低聚物的设备
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113474079B

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202080015199.9

    申请日:2020-11-13

    Abstract: 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,该用于制备低聚物的设备包括:用于使包含所供应的单体的供给流低聚的反应器;插入到在反应器的上部中形成的孔中的搅拌器;以及从反应器的侧部向内延伸的溶剂传输线,其中,搅拌器包括:从反应器的上部垂直向下延伸的旋转轴;以及具有锥形的叶片,该叶片的顶点位于旋转轴的下端,该叶片的外径从底部朝向顶部增大,并且溶剂传输线具有在朝向叶片的方向上形成的多个喷嘴。

    泡罩塔反应器
    6.
    发明公开
    泡罩塔反应器 审中-实审

    公开(公告)号:CN116635139A

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202280005275.7

    申请日:2022-06-17

    Abstract: 本发明提供一种泡罩塔反应器,其包括:反应区,在所述反应区中在液体反应介质中进行气态反应物的反应;第一分离段,所述第一分离段设置在所述反应区上方并且从所述反应区上升的第一流出物物流被引入到所述第一分离段中;和冷凝区,所述冷凝区设置在所述第一分离段上方,其中,所述冷凝区的直径小于所述第一分离段的直径。

    鼓泡塔反应器
    7.
    发明公开
    鼓泡塔反应器 审中-实审

    公开(公告)号:CN116583346A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202280005687.0

    申请日:2022-07-05

    Abstract: 本发明提供一种鼓泡塔反应器,包括:反应区,在该反应区中气态反应物在液态反应介质中进行反应;分离区,其设置在反应区上方,并且从所述反应区上升的第一气流被引入所述分离区中;和冷凝区,其设置在所述分离区上方,并且从所述分离区上升的第二气流被引入所述冷凝区中,其中所述冷凝区的直径大于所述分离区的直径。

    用于制备低聚物的设备
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114555223A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202180005012.1

    申请日:2021-07-09

    Abstract: 本发明涉及一种用于制备低聚物的设备,更具体地,涉及一种用于制备低聚物的设备,包括:反应器,该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域,和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域;第二气体反应物入口和第三气体反应物入口,所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上,所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上;以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴,所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接,所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。

    用于制备低聚物的装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114364456A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202180005088.4

    申请日:2021-07-01

    Abstract: 本公开涉及一种用于制备低聚物的装置,包括:反应器,所述反应器被供应有用于进行低聚反应的单体流和溶剂流;产物排出管线,所述产物排出管线设置在所述反应器的侧面的下部;清洗液供应管线,所述清洗液供应管线与所述产物排出管线的第一点连接;以及清洗液排出管线,所述清洗液排出管线从所述产物排出管线的第二点伸出,其中,所述产物排出管线包括将所述产物排出管线分支为两条以上的管线的分支点和将各条分支的管线接合的接合点,并且所述产物排出管线包括在分支的所述两条以上的管线中的每一条管线中设置的压力控制装置。

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