公开(公告)号：CN111542648A

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201880085360.2

申请日：2018-12-13

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 正元祐次 ,  阿部徹司 ,  齐藤康太 ,  千叶广之

IPC: C23F1/18 ,  H05K3/06

Abstract: 本发明提供一种能够在抑制残膜产生的同时形成尺寸精度优异的微细图案、且对铜系层等金属层的蚀刻有用的组合物。一种组合物，其为含有(A)选自铜离子和铁离子中的至少1种成分0.1～25质量％、(B)氯离子0.1～30质量％、(C)下述通式(1)(R1：单键等、R2和R3：碳原子数1～4的直链或支链状的亚烷基、R4和R5：氢原子等、n：通式(1)所示的化合物的数均分子量达到550～1400的数值)所示的数均分子量为550～1400的化合物0.01～10质量％和水的水溶液，(B)氯离子相对于(A)成分的质量比率为(B)/(A)＝0.5～2。

公开(公告)号：CN104160486A

公开(公告)日：2014-11-19

申请号：CN201280070725.7

申请日：2012-12-25

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 田口雄太 ,  齐藤康太

IPC: H01L21/308 ,  C23F1/16

CPC classification number: C23F1/18 ,  C09K13/06 ,  C23F1/16 ,  H01L21/32134 ,  H01L31/022425 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明的目的在于提供下述蚀刻液组合物和蚀刻方法，其在对包括氧化铟系膜和金属系膜的层叠膜一并进行蚀刻时，在氧化铟系膜和金属系膜之间不会产生大的台阶，包含氧化铟系膜和金属系膜的细线的宽度较小，此外，可以直线性良好地进行蚀刻。本发明蚀刻液组合物的特征在于包含：高铁离子成分、氯化氢成分、以及选自下述通式(1)表示的化合物和碳数1～4的直链或支链状醇中的至少1种以上的化合物成分(式(1)中，R1、R3各自独立地表示氢或碳数1～4的直链或支链状烷基，R2表示碳数1～4的直链或支链状亚烷基，n表示1～3的数)。

公开(公告)号：CN112867811A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN201980068276.4

申请日：2019-09-04

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 齐藤康太 ,  池田贵重

IPC: C23C22/50

Abstract: 提供在蚀刻含镍材料时的污物形成受到抑制、能够提高抗蚀图案与含镍材料的密合性的含镍材料用的表面处理液；以及使用其的含镍材料的表面处理方法。一种用于对含镍材料的表面进行处理的表面处理液、以及具有使该表面处理液接触含镍材料的表面的工序的含镍材料的表面处理方法。表面处理液是水溶液，其含有：(A)铁离子0.05～5质量％；(B)无机酸0.5～20质量％；(C)选自由柠檬酸三铵、乳酸铵、甲酸铵、柠檬酸氢二铵、乙醇酸铵和苹果酸铵组成的组中的至少1种化合物1～20质量％；以及水。

公开(公告)号：CN104160486B

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：CN201280070725.7

申请日：2012-12-25

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 田口雄太 ,  齐藤康太

IPC: H01L21/308 ,  C23F1/16

CPC classification number: C23F1/18 ,  C09K13/06 ,  C23F1/16 ,  H01L21/32134 ,  H01L31/022425 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明的目的在于提供下述蚀刻液组合物和蚀刻方法，其在对包括氧化铟系膜和金属系膜的层叠膜一并进行蚀刻时，在氧化铟系膜和金属系膜之间不会产生大的台阶，包含氧化铟系膜和金属系膜的细线的宽度较小，此外，可以直线性良好地进行蚀刻。本发明蚀刻液组合物的特征在于包含：高铁离子成分、氯化氢成分、以及选自下述通式(1)表示的化合物和碳数1～4的直链或支链状醇中的至少1种以上的化合物成分(式(1)中，R1、R3各自独立地表示氢或碳数1～4的直链或支链状烷基，R2表示碳数1～4的直链或支链状亚烷基，n表示1～3的数)。