公开(公告)号：CN108496241A

公开(公告)日：2018-09-04

申请号：CN201680079797.6

申请日：2016-10-21

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 奥野博行 ,  中井淳一 ,  吉田慎太郎

IPC: H01L21/3205 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532

CPC classification number: C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532

Abstract: 提供一种布线结构，其特征在于，是在Al－Ta合金薄膜的至少表面和侧面的任意一方的面上形成有Al－Ta氧化膜的布线结构，所述Al－Ta合金薄膜的Ta添加量为0.3～3.0原子％，且Cu含量为0.03原子％以下，所述Al－Ta氧化膜的膜厚为3～10nm，并且，所述Al－Ta氧化膜中的Ta的原子％浓度比Al－Ta合金薄膜中的Ta的原子％浓度低。

公开(公告)号：CN109312448A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780033719.7

申请日：2017-05-16

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 吉田慎太郎 ,  奥野博行

IPC: C23C14/34 ,  C22C21/12 ,  C23C14/14 ,  H01L51/50 ,  H05B33/26

CPC classification number: C22C21/12 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34 ,  H01L51/50 ,  H05B33/26

Abstract: 本发明涉及一种铝合金溅射靶材，其含有超过6原子％、17原子％以下的Cu，剩余部分包含Al及不可避免的杂质。根据本发明可提供一种有助于成膜速率的提高，且靶材的制造性优异的铝合金溅射靶材。

公开(公告)号：CN108431291A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201680069937.1

申请日：2016-10-28

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 吉田慎太郎 ,  奥野博行 ,  中井淳一

IPC: C23C14/14 ,  C22C21/00 ,  C22C21/12 ,  C23C14/34 ,  G02B5/08

Abstract: 提供一种通过将构成紫外线反射膜的稀土类元素、Cu和其余的Al的量、以及稀土类元素与Cu的比率控制在规定的范围，从而波长254nm的紫外线的反射率为85％以上的紫外线反射膜。一种紫外线反射膜，其含有一种或两种以上的稀土类元素：0.2at％以上且3.0at％以下，和Cu：0.2at％以上且6.0at％以下中的任意一者，余量由Al和不可避免的杂质构成，满足下述(1)式，波长254nm的紫外线的反射率为85％以上。X+0.5Y＜3.5…(1)[X是稀土类元素的量[at％]，Y是Cu的量[at％]。]。