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公开(公告)号：CN106873316A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201710243823.0
申请日：2004-02-26
申请人： 株式会社尼康
发明人： 长坂博之
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/7095
摘要： 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及器件制造方法。一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板，该曝光装置包括：把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统；为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域，从在多个不同的方向上与投影区域隔开的多个位置上同时向基板上进行液体供给的液体供给机构。
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公开(公告)号：CN103748519B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201280040882.3
申请日：2012-08-24
申请人： 株式会社尼康
发明人： 长坂博之
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 一种曝光装置具备，配置在该曝光用光光路(K)周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙(W1)对向、在与物体的上面之间保持液体(LQ)的第1面(310)的第1构件(30)；相对光路配置在第1面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面(61)的第2构件(60)；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体(LB)的第1供应口(64)；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面间的间隙(W2)吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体(Ga)的至少一部分的第1吸引口(33)。
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公开(公告)号：CN101354539B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200810160953.9
申请日：2004-02-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
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公开(公告)号：CN1650401B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN03809635.8
申请日：2003-04-09
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/707 , G03F7/70733 , G03F7/70775 , G03F7/70808 , G03F7/70866 , G03F7/70908
摘要： 在本发明的实施例中，将衬底W作为隔壁的一部分、用透过能量光束IL的透过性气体充满投影光学系统PL的射出端侧，而且在移动或交换衬底时，为了维持投影光学系统PL的射出端侧的气体状态，将物体70设置在投影光学系统PL的射出端侧来取代衬底W。由此，可以从投影光学系统的射出端侧适当地排除吸光物质，在移动或交换衬底时也能够维持该状态。
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公开(公告)号：CN101002299A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200580023601.3
申请日：2005-08-01
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要： 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN1723539A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105421.0
申请日：2003-12-09
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/709
摘要： 一种曝光装置，在投影光学系统(PL)与基片(P)之间的至少一部分用液体(50)充满，同时经由投影光学系统(PL)将图案像投影到基片(P)上对基片(P)进行曝光。对作为在移动基片(P)时与液体(50)接触的部分的光学元件(60)以及镜筒(PK)，实施调整与液体(50)的亲和性的表面处理。从而就防止了在投影光学系统与基片之间的液体中产生气泡，而且液体被经常维持在投影光学系统与基片之间，所以形成良好的浸液状态。
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公开(公告)号：CN115916450A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202080103223.4
申请日：2020-08-18
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： B23K26/082
摘要： 光学装置包括：第1光学系统，将第1面上的第1区域的光引导至第2面，并且将第2面设为与第1面相对的瞳面；第2光学系统，配置于第2面与第3面之间，且将第2面设为与第3面相对的瞳面；第1反射构件，设置于第1光学系统的射入侧的第1光程上，且具有摇动自如地设置的第1反射面；以及第2反射构件，设置于第1光学系统与第2光学系统之间的第2光程上，且具有摇动自如地设置的第2反射面。
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公开(公告)号：CN105204296B
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201510591955.3
申请日：2005-08-01
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70733
摘要： 本发明提供一种曝光装置的控制方法。一种曝光装置的控制方法，透过液浸区域的液体将基板曝光，包含以下步骤：通过从供应口供应液体，并且将从上述供应口所供应的液体从设置有多孔质的回收口回收，以在最靠近投影光学系统的像面的第1光学元件之下形成液浸区域；判断上述液浸区域是否为期望状态；及以边抑制上述液浸区域的液体从第1载台与第2载台的间隙流出，边在上述投影光学系统的像面侧的光路空间填满上述液体的状态下在上述第1载台上与上述第2载台上之间移动上述液浸区域的方式，在上述第1载台与上述第2载台接近的状态下，在上述投影光学系统的像面侧一起移动上述第1载台与上述第2载台。
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公开(公告)号：CN101477312B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN200910005724.4
申请日：2004-09-03
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。
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