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公开(公告)号：CN101354539B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200810160953.9
申请日：2004-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
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公开(公告)号：CN101852993A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN201010155625.7
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70341
Abstract: 一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。
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公开(公告)号：CN1723541B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200380105423.X
申请日：2003-12-08
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70341
Abstract: 一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。
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公开(公告)号：CN101002299A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200580023601.3
申请日：2005-08-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 提供曝光装置(EX)，其具备投影光学系统(PL)，该投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第1光学元件(LS1)。曝光装置(EX)具备：第1液浸机构(1)，用以在设置于投影光学系统(PL)像面侧的透明构件(64)的上面(65)与第1光学元件(LS1)之间形成第1液体(LQ1)的第1液浸区域(LR1)；及观察装置(60)，用以观察第1液浸区域(LR1)的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN109164682A
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201811146185.1
申请日：2012-12-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105204296A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510591955.3
申请日：2005-08-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70733
Abstract: 本发明提供一种曝光装置的控制方法。一种曝光装置的控制方法，透过液浸区域的液体将基板曝光，包含以下步骤：通过从供应口供应液体，并且将从上述供应口所供应的液体从设置有多孔质的回收口回收，以在最靠近投影光学系统的像面的第1光学元件之下形成液浸区域；判断上述液浸区域是否为期望状态；及以边抑制上述液浸区域的液体从第1载台与第2载台的间隙流出，边在上述投影光学系统的像面侧的光路空间填满上述液体的状态下在上述第1载台上与上述第2载台上之间移动上述液浸区域的方式，在上述第1载台与上述第2载台接近的状态下，在上述投影光学系统的像面侧一起移动上述第1载台与上述第2载台。
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公开(公告)号：CN104678715A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201510058647.4
申请日：2004-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F7/70341 , G03F7/708 , G03F7/7095
Abstract: 本发明提供一种曝光方法以及器件制造方法。曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。
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公开(公告)号：CN1846298A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200480025055.2
申请日：2004-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/709
Abstract: 一种曝光装置，其包括将掩模的图像投影至载台支承的衬底W上的投影光学系统，以及在投影光学系统和载台间形成特定气体气氛的气氛形成机构70、71，其中气氛形成机构70、71具有缓冲部件71a、71b，其削弱由载台或衬底W与气氛形成机构接触所产生的力，并抑制该力向投影光学系统PL的传递。该构造能防止因载台或衬底W与气氛形成机构70、71接触所产生的力传递至投影光学系统而损坏投影光学系统PL。
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公开(公告)号：CN104170054B
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201280071531.9
申请日：2012-12-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G02B26/08 , G03F7/20
Abstract: 在空间光调制器的驱动方法中，在Y方向上邻接配置并沿X方向延伸的第一边界区域以及第二边界区域中，将在第一边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第一间距排列的镜元件设定为相位0，将其他的镜元件设定为相位π，将在第二边界区域内在X方向上以不被投影光学系统析像的第二间距排列的镜元件设定为相位π，将其他的镜元件设定为相位0。使用空间光调制器向物体投影图案时，能够以比空间光调制器的各光学元件的像的宽度更精细的位置精度或者形状精度形成图案。
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公开(公告)号：CN102998910A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210468689.1
申请日：2005-08-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70733
Abstract: 本发明提供一种曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法。提供曝光装置（EX），其具备投影光学系统（PL），该投影光学系统（PL）具有最靠近投影光学系统（PL）的像面的第1光学元件（LS1）。曝光装置（EX）具备：第1液浸机构（1），用以在设置于投影光学系统（PL）像面侧的透明构件（64）的上面（65）与第1光学元件（LS1）之间形成第1液体（LQ1）的第1液浸区域（LR1）；及观察装置（60），用以观察第1液浸区域（LR1）的状态。从而，能掌握液体的液浸区域的状态，执行最适当的液浸曝光。
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