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公开(公告)号：CN102043350A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201110022027.7
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN100382241C
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200380105419.3
申请日：2003-12-05
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要： 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器。显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器。显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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公开(公告)号：CN106707699B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710164773.7
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置，透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光，具备：投影光学系统，将像透过液体透影；可动构件，支承该基板并移动；液体供应机构，从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体；以及液体回收机构，从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收；该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。
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公开(公告)号：CN104122760B
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201410333238.6
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN102323724A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110268975.9
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101231477B
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200810082276.3
申请日：2003-12-05
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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公开(公告)号：CN1723539B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200380105421.0
申请日：2003-12-09
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/709
摘要： 一种曝光装置，在投影光学系统(PL)与基片(P)之间的至少一部分用液体(50)充满，同时经由投影光学系统(PL)将图案像投影到基片(P)上对基片(P)进行曝光。对作为在移动基片(P)时与液体(50)接触的部分的光学元件(60)以及镜筒(PK)，实施调整与液体(50)的亲和性的表面处理。从而就防止了在投影光学系统与基片之间的液体中产生气泡，而且液体被经常维持在投影光学系统与基片之间，所以形成良好的浸液状态。
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公开(公告)号：CN101436000A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810173386.0
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN100452293C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200480021856.1
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN106707699A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201710164773.7
申请日：2004-07-26
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置，透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光，具备：投影光学系统，将像透过液体透影；可动构件，支承该基板并移动；液体供应机构，从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体；以及液体回收机构，从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收；该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。
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