公开(公告)号：CN100346150C

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN01821648.X

申请日：2001-12-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 塚越敏雄

IPC: G01M11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B7/00

CPC classification number: G03F7/705 ,  G02B7/023 ,  G02B27/0043 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/706

Abstract: 当输入投影光学系统(PL)的波前象差的实际测量数据时，主控制器(50)根据该数据和输入之前制作的成象特性泽尔尼克变量表计算投影光学系统的靶成象特性。通过利用泽尔尼克变量表，可以只用一次测量波前象差来计算靶成象特性。而且还提前获得表示可调节的特定光学元件(131～134)的调节与投影光学系统的成象特性的变化之间关系的参数，并将其提前储存在存储单元(42)中。然后，当输入投影光学系统的成象特性的测量数据时，主控制器利用测量数据、参数和特定光学元件的靶调节量之间的关系表达式计算特定光学元件的靶调节量，并且根据计算结果调节特定光学元件。

公开(公告)号：CN100401191C

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN02104628.X

申请日：2002-02-19

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 滨谷正人 ,  塚越敏雄

IPC: G03F7/20 ,  G06F15/16

CPC classification number: G03F7/706 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/30461

Abstract: 一个计算机系统包括一个第一计算机和一个第二计算机；一个光学设备需要实现的目标信息输入到该第一计算机中；该第二计算机根据借助于通讯线路从第一计算机接收来的目标信息并使用投射光学系统需要满足的波前像差量作为标准来确定一个投射光学系统的规格。因此，在制造投射光学系统的过程中，通过根据测量波前像差的结果来调节投射光学系统，像差的高阶分量可以在对低阶分量进行修正的同时进行修正以满足该规格；因此，该制造方法变得简单。而且，所述的投射光学系统能够保证实现所述的曝光设备所需实现的目标。

公开(公告)号：CN1371027A

公开(公告)日：2002-09-25

申请号：CN02104628.X

申请日：2002-02-19

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 滨谷正人 ,  塚越敏雄

IPC: G03F7/20 ,  G06F15/16

CPC classification number: G03F7/706 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/30461

Abstract: 一个计算机系统包括一个第一计算机和一个第二计算机;一个光学设备需要实现的目标信息输入到该第一计算机中;该第二计算机根据借助于通讯线路从第一计算机接收来的目标信息并使用投射光学系统需要满足的波前像差量作为标准来确定一个投射光学系统的规格。因此,在制造投射光学系统的过程中,通过根据测量波前像差的结果来调节投射光学系统,像差的高阶分量可以在对低阶分量进行修正的同时进行修正以满足该规格;因此,该制造方法变得简单。而且,所述的投射光学系统能够保证实现所述的曝光设备所需实现的目标。

公开(公告)号：CN101135864A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710154793.2

申请日：2001-12-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 塚越敏雄

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00 ,  G01M11/00

Abstract: 本发明公开了一种通过投影光学系统把图案转印到物体上的曝光方法，根据与所述投影光学系统的波前象差有关的信息、与应当转印到所述物体上的图案以及该图案的照明条件相对应的泽尔尼克变量表、以及与调节所述投影光学系统成象特性的设备中的调节量和泽尔尼克多项式各项系数的变化的关系有关的数据，调节所述投影光学系统的成象特性，通过调节所述成象特性后的投影光学系统把图案影像投影到所述物体上。

公开(公告)号：CN1484757A

公开(公告)日：2004-03-24

申请号：CN01821648.X

申请日：2001-12-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 塚越敏雄

IPC: G01M11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G02B7/00

CPC classification number: G03F7/705 ,  G02B7/023 ,  G02B27/0043 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/706

Abstract: 当输入投影光学系统(PL)的波前象差的实际测量数据时，主控制器(50)根据该数据和输入之前制作的成象特性泽尔尼克变量表计算投影光学系统的靶成象特性。通过利用泽尔尼克变量表，可以只用一次测量波前象差来计算靶成象特性。而且还提前获得表示可调节的特定光学元件(131～134)的调节与投影光学系统的成象特性的变化之间关系的参数，并将其提前储存在存储单元(42)中。然后，当输入投影光学系统的成象特性的测量数据时，主控制器利用测量数据、参数和特定光学元件的靶调节量之间的关系表达式计算特定光学元件的靶调节量，并且根据计算结果调节特定光学元件。