图形处理方法与装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1577723A

    公开(公告)日:2005-02-09

    申请号:CN200410059454.2

    申请日:2004-06-28

    CPC classification number: G06T7/0004 G06K9/48 G06T7/66 G06T2207/20044

    Abstract: 一种图形处理方法,在此图形处理方法中:它相对由点集表示的于数字图像中反映的物体形状轮廓的图形,应用中间轴与芯线中的至少一个,计算由此图形的轮廓在到图形的中心方向上按等距离离开的第一图形骨架;将计算出的上述第一图形骨架中上述图形的顶点到该骨架的枝状直线删除求出第二图形骨架;相对以上述第二图形骨架一方的端点为始点以另一方的端点为终点绕上述图形轮廓一周求得的数据,将上述第二图形骨架作为一方的坐标轴并将从上述第二图形骨架到上述图形轮廓的距离作为另一方的坐标轴由此定义曲线坐标系;将上述图形轮廓上的点坐标变换到该曲线坐标系的上述另一方坐标轴上,根据图像来处理其上述物体形状的图形。

    集成电路图形检验装置和检验方法

    公开(公告)号:CN1601225A

    公开(公告)日:2005-03-30

    申请号:CN200410080073.2

    申请日:2004-09-24

    CPC classification number: G06F17/5081

    Abstract: 一种集成电路图形检验装置和方法。要短时间而且正确地检验图形是困难的。解决方式是:公差数据产生部分(16)产生与根据设计数据设定的目标图形对应的公差数据。摄像装置(18)产生根据目标图形形成的半导体器件的图形的图像数据。轮廓抽出部分(19)从由摄像装置(18)供给的图像数据中抽出图形的轮廓数据。数据合成部分(17)合成由公差数据超短波法(16)供给的公差数据,和由轮廓抽出部分(19)供给轮廓数据,判定这些数据的交叉部分的有无。

    集成电路图形检验装置和检验方法

    公开(公告)号:CN1279329C

    公开(公告)日:2006-10-11

    申请号:CN200410080073.2

    申请日:2004-09-24

    CPC classification number: G06F17/5081

    Abstract: 一种集成电路图形检验装置和方法。要短时间而且正确地检验图形是困难的。解决方式是:公差数据产生部分(16)产生与根据设计数据设定的目标图形对应的公差数据。摄像装置(18)产生根据目标图形形成的半导体器件的图形的图像数据。轮廓抽出部分(19)从由摄像装置(18)供给的图像数据中抽出图形的轮廓数据。数据合成部分(17)合成由公差数据产生部分(16)供给的公差数据,和由轮廓抽出部分(19)供给轮廓数据,判定这些数据的交叉部分的有无。

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