公开(公告)号：CN101512725B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200780033165.7

申请日：2007-09-05

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

Inventor： 永井达夫 ,  森田博志 ,  高桥弘明 ,  内田博章 ,  林豊秀

IPC: H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G11B7/26

CPC classification number: G03F7/423 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。

公开(公告)号：CN101512725A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780033165.7

申请日：2007-09-05

Applicant: 栗田工业株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

Inventor： 永井达夫 ,  森田博志 ,  高桥弘明 ,  内田博章 ,  林豊秀

IPC: H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G11B7/26

CPC classification number: G03F7/423 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。

公开(公告)号：CN103295936A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201310058542.X

申请日：2013-02-25

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 根来世 ,  村元僚 ,  林豊秀 ,  桥本光治 ,  永井泰彦

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67023 ,  C23C16/46 ,  C23C16/48 ,  C23C16/481 ,  C23C16/482 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/6708

Abstract: 基板处理装置用于对基板的主面施行利用药液的处理。该基板处理装置包括：基板保持单元，其用于保持基板；药液供给单元，其具有用于向上述基板保持单元所保持的基板的主面供给药液的药液喷嘴；加热器，其直径小于基板的直径，并且具有红外线灯，该加热器与上述基板保持单元所保持的基板的主面相向配置，通过从上述红外线灯照射红外线来对供给至基板的主面的药液进行加热；加热器移动单元，其用于使上述加热器沿着上述基板保持单元所保持的基板的主面移动。