公开(公告)号：CN106024660B

公开(公告)日：2019-03-22

申请号：CN201610176740.X

申请日：2016-03-25

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 拉里·赵 ,  阿图·克里克斯 ,  普拉文·纳拉

IPC: H01L21/66

Abstract: 本发明涉及使用无电沉积以突出杂质、残留和不完全导孔蚀刻。一种用于检测图案化衬底上的杂质的方法包括：在衬底上进行通孔蚀刻操作，其中所述通孔蚀刻操作被配置为限定衬底上的通孔特征并暴露在通孔特征的底部的蚀刻终止层；在衬底上进行蚀刻终止去除操作，其中所述蚀刻终止去除操作被配置为用于除去通孔特征的底部的蚀刻终止层，以暴露在蚀刻终止层下的金属特征；将无电沉积溶液施加在衬底上，所施加的无电沉积溶液被配置为用于在所暴露的金属特征上以及在衬底的所暴露的表面上的金属杂质上选择性地沉积金属材料，所述金属杂质是在蚀刻终止去除操作过程中由金属特征产生的；在衬底上进行检测操作以确定已经沉积有金属材料的金属杂质。

公开(公告)号：CN106024660A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610176740.X

申请日：2016-03-25

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 拉里·赵 ,  阿图·克里克斯 ,  普拉文·纳拉

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L22/12 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/288 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76831 ,  H01L21/76843 ,  H01L21/76879 ,  H01L22/24

Abstract: 本发明涉及使用无电沉积以突出杂质、残留和不完全导孔蚀刻。一种用于检测图案化衬底上的杂质的方法包括：在衬底上进行通孔蚀刻操作，其中所述通孔蚀刻操作被配置为限定衬底上的通孔特征并暴露在通孔特征的底部的蚀刻终止层；在衬底上进行蚀刻终止去除操作，其中所述蚀刻终止去除操作被配置为用于除去通孔特征的底部的蚀刻终止层，以暴露在蚀刻终止层下的金属特征；将无电沉积溶液施加在衬底上，所施加的无电沉积溶液被配置为用于在所暴露的金属特征上以及在衬底的所暴露的表面上的金属杂质上选择性地沉积金属材料，所述金属杂质是在蚀刻终止去除操作过程中由金属特征产生的；在衬底上进行检测操作以确定已经沉积有金属材料的金属杂质。