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公开(公告)号：CN105798767B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201610211050.3
申请日：2012-03-12
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B24B37/10 , B24B37/26 , G02F1/1303 , G02F2201/48
Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨方法及研磨装置，使板状体保持部件和研磨工具相对靠近，从而通过上述研磨工具研磨由上述板状体保持部件所保持的上述板状体，其中，上述板状体保持部件保持板状体的非研磨面，并且进行公转及自转的某一个动作，上述研磨工具在对上述板状体的研磨面进行研磨的面上具有沿着一个方向的多个槽，并且该研磨工具进行公转及自转的另一个动作，在所述板状体的研磨方法中，独立控制上述板状体保持部件及上述研磨工具的上述公转动作及上述自转动作，在上述板状体的研磨过程中，变更上述自转的角速度。
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公开(公告)号：CN103630552A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310372689.6
申请日：2013-08-23
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明提供一种检查板状体的缺陷并且能够获取缺陷的产生和附着位置的板状体的缺陷检查方法以及缺陷检查装置。根据本发明，首先，将玻璃板以靠基座放置的方式搭载于基座。接着，获取坐标原点。即，获取对玻璃板的四个角部中的一个角部照射来自激光指针的点光的位置作为坐标原点。接着，使与基座相对置地配置的观察光学部沿着滑轨水平移动，并且使基座升降移动，通过观察光学部发现搭载于基座的玻璃板的缺陷。接着，从激光指针向由观察光学部发现的缺陷的位置照射点光。而且，通过控制部计算点光在玻璃板的表面上的照射位置的坐标位置并存储到RAM。
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公开(公告)号：CN104870390B
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201380066636.X
申请日：2013-12-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C15/00 , B24B7/244 , B24B37/04 , C03C23/0075
Abstract: 本发明提供一种适合去除用浮法制造的玻璃基板表面上存在的渣滓、尤其是模具残留渣的方法。本发明玻璃基板表面的异物去除方法的特征在于，对用浮法制造的玻璃基板的与熔融金属浴的接触面供给含有选自氯离子、碘离子、溴离子、氟离子、以及硫酸根离子中的至少1种离子的pH3以下的无机酸水溶液，和选自锌、铁以及铝中的至少1种金属，使上述无机酸以及上述金属的每单位面积的供给量分别达到1g/m2以上，对该面进行蚀刻处理后，对该经蚀刻处理的面进行机械研磨或化学机械研磨，使研磨量为0.1μm以上2μm以下。
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公开(公告)号：CN105856061A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610211042.9
申请日：2012-03-12
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B24B37/10 , B24B37/26 , G02F1/1303 , G02F2201/48
Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨方法及研磨装置，使板状体保持部件和研磨工具相对靠近，从而通过上述研磨工具研磨由上述板状体保持部件所保持的上述板状体，其中，上述板状体保持部件保持板状体的非研磨面，并且进行公转及自转的某一个动作，上述研磨工具在对上述板状体的研磨面进行研磨的面上具有沿着一个方向的多个槽，并且该研磨工具进行公转及自转的另一个动作，在所述板状体的研磨方法中，独立控制上述板状体保持部件及上述研磨工具的上述公转动作及上述自转动作，在上述板状体的研磨过程中，变更上述自转的角速度。
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公开(公告)号：CN102019580A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010287565.4
申请日：2010-09-17
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种使研磨品质稳定并使生产效率提高的玻璃板局部研磨装置、玻璃板局部研磨方法、玻璃制品的制造装置及玻璃制品的制造方法。在利用检测单元(4)检测出玻璃板(G)表面的缺陷后，将玻璃板(G)吸附固定到工作台(2)上，利用比玻璃板(G)的外形尺寸小的外形尺寸的研磨垫(34)对由检测单元(4)检测出的缺陷(D)的位置及其周围进行研磨，由此即使不进行整面研磨也能去除缺陷(D)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104870390A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201380066636.X
申请日：2013-12-18
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C15/00 , B24B7/244 , B24B37/04 , C03C23/0075
Abstract: 本发明提供一种适合去除用浮法制造的玻璃基板表面上存在的渣滓、尤其是模具残留渣的方法。本发明玻璃基板表面的异物去除方法的特征在于，对用浮法制造的玻璃基板的与熔融金属浴的接触面供给含有选自氯离子、碘离子、溴离子、氟离子、以及硫酸根离子中的至少1种离子的pH3以下的无机酸水溶液，和选自锌、铁以及铝中的至少1种金属，使上述无机酸以及上述金属的每单位面积的供给量分别达到1g/m2以上，对该面进行蚀刻处理后，对该经蚀刻处理的面进行机械研磨或化学机械研磨，使研磨量为0.1μm以上2μm以下。
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公开(公告)号：CN102822110A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180017986.8
申请日：2011-04-05
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B08B1/02 , B08B1/04 , B24B7/244 , B24B27/0069 , B24B27/0076 , B24B37/08 , B24B37/245 , B24B37/26 , B24D13/142 , B24D2203/00 , C03C19/00 , C03C23/0075
Abstract: 本发明涉及一种玻璃板的制造方法，其具备：由熔融玻璃成形平板玻璃的成形工序；将所述成形后的平板玻璃切折成规定的尺寸的玻璃板的切折工序；将在所述切折后的玻璃板的表面上附着的异物除去的异物除去工序；及通过对该玻璃板的表面进行研磨而将所述异物除去工序后的玻璃板的表面的损伤除去的研磨工序。
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公开(公告)号：CN102416597A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201010297257.X
申请日：2010-09-28
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B24B37/04
Abstract: 本发明提供一种能够长时间顺利地对玻璃基板进行研磨的基板的研磨装置及基板的研磨方法。本发明将与吸附片相比拉伸方向的刚性高的中间片夹在膜体和吸附片之间并进行粘接。通过研磨中产生的研磨阻力，膜体在拉伸方向上伸缩，由于膜体的伸缩动作，有时中间片和膜体之间发生剥离，但由于中间片介于膜体和吸附片之间，因此在因玻璃基板G的吸附而制约伸缩的吸附片和拉伸方向的刚性比吸附片高的中间片之间，由于中间片在拉伸方向上不伸缩，因此不会发生相对偏离，能够防止吸附片从中间片剥离并卷起。
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公开(公告)号：CN102019579A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010287381.8
申请日：2010-09-17
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G11B5/7315 , B24B37/005 , B24B37/042 , B24B37/08 , B24B49/10 , G11B5/8404 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种玻璃基板的制造方法、研磨方法及研磨装置以及玻璃基板，能够提高玻璃基板的研磨精度。该研磨装置具备：驱动上平台(40)的电动机、驱动下平台(30)的电动机、驱动设于下平台(30)的内周的内侧的太阳齿轮的电动机、驱动设于下平台(30)的外周的外侧的内啮合齿轮的电动机、以及控制这些电动机的控制部(90)，控制部(90)通过控制这些电动机的驱动而对玻璃基板进行研磨，其特征在于，控制部(90)基于这些电动机的驱动所需的电力或者电力量调整玻璃基板的研磨。
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公开(公告)号：CN103429383B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201280013296.X
申请日：2012-03-12
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B24B7/24 , B24B37/10 , G02F1/1333
CPC classification number: B24B37/10 , B24B37/26 , G02F1/1303 , G02F2201/48
Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨方法，使板状体保持部件和研磨工具相对靠近，从而通过上述研磨工具研磨由上述板状体保持部件所保持的上述板状体，其中，上述板状体保持部件保持板状体的非研磨面，并且进行公转及自转的某一个动作，上述研磨工具在对上述板状体的研磨面进行研磨的面上具有沿着一个方向的多个槽，并且该研磨工具进行公转及自转的另一个动作，在所述板状体的研磨方法中，独立控制上述板状体保持部件及上述研磨工具的上述公转动作及上述自转动作，在上述板状体的研磨过程中，变更上述自转的角速度。
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