公开(公告)号：CN119816934A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202380063130.7

申请日：2023-08-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： A·A·坎古德 ,  B·N·拉马穆尔蒂 ,  A·C·查克拉瓦希 ,  V·K·普拉巴卡尔 ,  D·R·斯里车南姆

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 示例性基板处理系统可包括盖板。系统可包括具有RPS出口和旁通出口的气体馈送管线。系统可包括被支撑在盖板顶上的远程等离子体单元。远程等离子体单元可包括入口和出口。入口可与RPS出口耦接。系统可包括中心歧管，所述中心歧管具有与出口耦接的RPS入口以及与旁通出口耦接的旁通入口。中心歧管可包括多个出口端口。系统可包括多个侧歧管，所述多个侧歧管与出口端口流体耦接。侧歧管中的每一者可限定气体管腔。系统可包括安置在盖板上的多个输出歧管。每个输出歧管可与侧歧管中的一者的气体管腔流体耦接。

公开(公告)号：CN117295845A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202280034142.2

申请日：2022-03-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 张宇星 ,  T·A·恩古耶 ,  A·K·班塞尔 ,  N·帕塔克 ,  S·拉斯 ,  T·鲁比奥 ,  U·S·科塔基 ,  B·N·拉马穆尔蒂 ,  D·R·斯里车南姆

IPC: C23C16/44

Abstract: 本公开内容涉及用于基板处理腔室的清洁组件、清洁组件的部件以及与清洁组件相关联的方法。在一个示例中，用于基板处理腔室的清洁组件包括分配环。分配环包括具有入口和出口的主体。出口经由基板处理腔室的侧壁流体耦接至基板处理腔室的内部容积。清洁组件包含清洁导管，所述清洁导管配置成将气体歧管流体耦接至分配环，以用于将清洁流体的第一部分从气体歧管转向分配环。

公开(公告)号：CN118251755A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202280074448.0

申请日：2022-10-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： A·C·查克拉瓦希 ,  V·K·普拉巴卡尔 ,  D·R·斯里车南姆 ,  H·雷兹万塔拉布

IPC: H01L21/67 ,  C23C16/455 ,  H01J37/32

Abstract: 示例性基板处理系统可包括盖板。所述系统可包括安置在所述盖板上的气体分流器。所述气体分流器可包括顶表面和侧表面。所述气体分流器可界定第一气体入口和第二气体入口，其中每个气体入口延伸通过一个侧表面。所述气体分流器可界定延伸通过所述顶表面的第一气体出口和第二气体出口。所述气体分流器可界定第一气体管腔和第二气体管腔，所述气体管腔在每个气体入口与对应的气体出口之间延伸并流体耦接每个气体入口与对应的气体出口。所述气体分流器可界定混合通道，所述混合通道包括延伸通过侧表面的混合出口和延伸通过顶表面的混合入口。所述系统可包括安置在所述盖板上的输出歧管。所述系统可包括输出焊接件，所述输出焊接件将每个混合出口与所述输出歧管中的一个相应输出歧管流体耦接。