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公开(公告)号：CN118898143A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202411356899.0
申请日：2024-09-27
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及参数设计技术领域，尤其涉及超声雾化器多参数设计方法、装置、设备及存储介质，所述方法包括：基于获取的初始设计参数构建初始三维模型；对初始三维模型进行流体力学仿真分析，得到仿真分析结果；比较仿真分析结果和预设的目标颗粒直径，若不匹配，则依次调整初始设计参数所包括的初始长度、初始直径和初始倒圆，得到调整参数；基于调整参数调整初始三维模型，并对调整后的初始三维模型进行流体力学仿真分析，得到调整分析结果；比较调整分析结果和预设的目标颗粒直径，若匹配，则基于调整参数生成超声雾化器的设计方案；本申请公开的方法，可提高超声雾化器的设计效率和开发效率，且可使所设计的超声雾化器可满足特定场景使用需求。
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公开(公告)号：CN115817047B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202310155863.5
申请日：2023-02-23
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及OLED喷墨打印技术领域，公开了一种OLED像素层喷印落点位置规划与喷印控制方法。该方法获取墨水特性和打印基板特性；基于墨水特性和打印基板特性，对打印基板像素槽进行划分，得到划分区域；基于划分区域，生成打印点位；确定打印点位的打印喷嘴标识；根据打印点位、打印点位的打印喷嘴标识以及预设打印方向进行打印。整个方案基于多维度的打印相关属性，对打印基板的像素槽进行划分，基于划分区域来生成打印点位，相比传统的基于墨滴体积得到的打印点位更加准确，确定打印点位对应的喷嘴标识，精确控制每个打印喷嘴，根据精确的打印点位以及打印点位的对应的打印喷嘴标识以预设打印方向进行打印，可以显著提高打印的准确性。
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公开(公告)号：CN115674912A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211320986.1
申请日：2022-10-26
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/21 , B41J29/393
Abstract: 本发明公开了一种喷墨补印路径规划方法、喷墨打印机及计算机可读存储介质，属于显示标记技术领域。所述方法包括步骤：确定所述喷墨打印机的目标喷头所在打印行的第一个缺陷子像素坐标；确定所述第一个缺陷子像素坐标与所述目标喷头中各个正常喷孔之间的拓扑几何关系以得到第一补打位移集合；基于所述第一个缺陷子像素坐标确定剩余缺陷子像素与各个所述正常喷孔之间的拓扑几何关系以得到剩余补打位移集合；确定所述第一补打位移集合和所述剩余补打位移集合之间的目标补打位移，并根据所述目标补打位移对所有缺陷子像素进行补充打印。通过将本发明，大幅降低了对喷墨补印规划的计算量，极大地提升了喷墨打印机的补印效率。
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公开(公告)号：CN119734532A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411912878.2
申请日：2024-12-24
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于打印机领域，具体公开了一种喷墨打印机墨水过滤装置、打印机、供墨系统及使用方法，该喷墨打印机墨水过滤装置有上盖(11)、第一过滤组件(12)、第二过滤组件(13)、第三过滤组件(14)、底座(15)、连接组件(16)和外壳(17)组成，还提供了一种包括此喷墨打印机墨水过滤装置的打印机，以及供墨系统及其使用方法。本申请所提供的喷墨打印机墨水过滤装置结构可靠，可根据实际需求进行不同精度的过滤组件组合调整，该过滤结构还具备滤泡功能，有利于打印品质的提高，同时采用耐墨水腐蚀材料制作，可适用墨水广泛。
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公开(公告)号：CN119659175A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411860820.8
申请日：2024-12-17
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/175
Abstract: 本发明涉及喷墨打印技术领域，本发明公开了一种新型供墨系统及喷墨打印设备，包括驱动装置、第一墨水容器、第二墨水容器、第一活塞、第二活塞和喷头，所述驱动装置分别与所述第一活塞和所述第二活塞传动连接；通过驱动装置控制所述第一活塞和所述第二活塞在所述第一墨水容器和所述第二墨水容器内部进行往复运动，使第二墨水容器中的墨水在压力作用下经管道流向第一墨水容器，并经第一墨水容器的供墨出口流向喷头；新型供墨系统采用纯泵控活塞式控制，区别于传统气控或气泵混控，有效避免气阀开闭、墨泵启停瞬间产生的压力波动，显著提升墨路稳定性，保障供墨效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115674912B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202211320986.1
申请日：2022-10-26
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/21 , B41J29/393
Abstract: 本发明公开了一种喷墨补印路径规划方法、喷墨打印机及计算机可读存储介质，属于显示标记技术领域。所述方法包括步骤：确定所述喷墨打印机的目标喷头所在打印行的第一个缺陷子像素坐标；确定所述第一个缺陷子像素坐标与所述目标喷头中各个正常喷孔之间的拓扑几何关系以得到第一补打位移集合；基于所述第一个缺陷子像素坐标确定剩余缺陷子像素与各个所述正常喷孔之间的拓扑几何关系以得到剩余补打位移集合；确定所述第一补打位移集合和所述剩余补打位移集合之间的目标补打位移，并根据所述目标补打位移对所有缺陷子像素进行补充打印。通过将本发明，大幅降低了对喷墨补印规划的计算量，极大地提升了喷墨打印机的补印效率。
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公开(公告)号：CN115593111B
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211496408.3
申请日：2022-11-28
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/045
Abstract: 本发明公开了一种喷墨打印控制方法、设备及计算机可读存储介质，涉及喷墨打印技术领域。该方法包括以下步骤：根据各所述打印子像素槽所处的子像素区域，对所述喷头模组中喷孔进行分组，确定各所述打印子像素槽对应的喷孔组；根据各所述喷孔组的喷射参数信息，确定各所述喷孔组中的可用喷孔组与不可用喷孔组；根据各所述可用喷孔组与各所述不可用喷孔组，生成所述喷头模组的掩膜矩阵；对所述掩膜矩阵的移动步长进行遍历，确定所述喷头模组的全局移动路径，并控制所述喷头模组按照所述全局移动路径进行喷墨打印。本发明实现了一行及一行以上的喷头模组的移动路径规划，可有效提高喷墨打印的效率，并且还提高了喷墨打印控制方法的适用性。
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公开(公告)号：CN119610895A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411872498.0
申请日：2024-12-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及喷墨打印技术领域，特别是一种循环供墨装置和喷墨打印设备，其包括外壳以及均设置在所述外壳内部的供墨瓶、进墨连接组件、回墨连接组件、回墨瓶、稳墨连接组件、隔膜泵、稳墨瓶、过滤器组件和多个密封轴组件，部件之间通过密封轴组件连接。通过简化的结构设计和优化的墨水循环路径，解决了传统供墨系统结构复杂、维护困难、墨压不稳定以及循环路径长的问题，具有结构简化、维护方便、墨压稳定、循环路径短的优点。
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公开(公告)号：CN119677056A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411895348.1
申请日：2024-12-21
Applicant: 季华实验室
IPC: H05K7/20
Abstract: 本申请公开了一种水冷板、控制方法及设备，属于印刷设备技术领域，水冷板包括背板、水冷单元和密封板，背板设有多个安装位；水冷单元上设有入水口和出水口，水冷单元内设有流道，入水口和出水口通过流道连通，水冷单元为多个，多个水冷单元对应安装在多个安装位内，密封板盖设于背板上，通过独立基本的流道可以实现单位区域温度独立可控，温度控制方法可以根据输入的独立水冷模块温度分布数据进行水冷板温度分布仿真分析，便于更好的预估不同独立水冷模块作用下的整板温度分布及进行温度控制。
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公开(公告)号：CN118915829B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411390261.9
申请日：2024-10-08
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种气流均匀化方法、装置、设备、存储介质和程序产品，涉及真空腔体应用的技术领域，包括：通过在目标腔体内设置一格栅阵列，使用格栅阵列在不同开度下的压强分布，表征在格栅阵列处的气流均匀或湍流，以此进一步通过调整格栅阵列的开度，使得格栅阵列处的气流均匀化。相较于常规手段，本申请的气流均匀化方法无需改进腔体表面质量，无需优化腔体内部结构，也无需使用蜂窝芯结构，仅需要增加一格栅阵列即可，效率高、成本低、效果显著，可适用于复杂的腔体内部结构和非线性抽真空过程。
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