二阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统

    公开(公告)号:CN117929372B

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202410105242.0

    申请日:2024-01-25

    Abstract: 本发明提供了二阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统,其中,方法包括:基于有限元法和二阶二维微分运算函数对超构表面的单元结构和相位分布进行仿真;基于仿真结果进行超构表面的制备,得到具有二阶二维微分运算函数特性的超构表面;基于所述超构表面构建若干边缘检测单元,基于待测图像的特性选择对应边缘检测单元进行边缘检测,得到所述待测图像的轮廓信息,完成边缘检测。本发明所述技术方案改善了传统基于空间光调制器的三维成像光学系统存在零级高级衍射且难以集成的问题,使元件体积大幅缩小,成像质量得到改善。

    一阶二维微分运算的超构透镜边缘检测成像方法和系统

    公开(公告)号:CN117849918B

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202410105139.6

    申请日:2024-01-25

    Abstract: 本发明提供了一阶二维微分运算的超构透镜边缘检测成像方法和系统,包括:步骤1:设计并加工具有一阶二维微分运算函数特性的超构透镜;步骤2:构建以超构透镜为核心的图像边缘检测模型,基于图像边缘检测模型对待测图像进行成像,得到边缘检测图像;步骤3:基于边缘检测图像获取待测图像的边缘轮廓,完成待测图像的边缘检测成像。本发明使用超构透镜产生一阶二维微分运算函数调制,不仅避免了零级衍射光斑的影响,提高了能量利用率和成像效率,而且提高了系统的集成化和轻量化。将一阶二维微分运算函数的特点与超构透镜的优势相结合,在能够进行高精度边缘检测的同时,降低了系统的复杂程度,使系统更易于集成。

    一阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统

    公开(公告)号:CN117991418A

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202410104998.3

    申请日:2024-01-25

    Abstract: 本发明提供了一阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统,其中方法包括:步骤1:设计并加工具有一阶二维微分运算函数特性的超构表面;步骤2:基于超构表面和边缘检测图像模型对待测图像进行成像,得到边缘检测图像;步骤3:基于边缘检测图像获取边缘检测结果。本发明基于传统的一阶二维微分运算函数成像方法,使用超构表面产生一阶二维微分运算函数调制,不仅避免了零级衍射光斑的影响,提高了能量利用率和成像效率,而且提高了系统的集成化和轻量化。将一阶二维微分运算函数的特点与超构表面的优势相结合,在能够进行高精度边缘检测的同时,降低了系统的复杂程度,使系统更易于集成,满足当下边缘检测系统的使用需求。

    一阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统

    公开(公告)号:CN117991418B

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202410104998.3

    申请日:2024-01-25

    Abstract: 本发明提供了一阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统,其中方法包括:步骤1:设计并加工具有一阶二维微分运算函数特性的超构表面;步骤2:基于超构表面和边缘检测图像模型对待测图像进行成像,得到边缘检测图像;步骤3:基于边缘检测图像获取边缘检测结果。本发明基于传统的一阶二维微分运算函数成像方法,使用超构表面产生一阶二维微分运算函数调制,不仅避免了零级衍射光斑的影响,提高了能量利用率和成像效率,而且提高了系统的集成化和轻量化。将一阶二维微分运算函数的特点与超构表面的优势相结合,在能够进行高精度边缘检测的同时,降低了系统的复杂程度,使系统更易于集成,满足当下边缘检测系统的使用需求。

    二阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统

    公开(公告)号:CN117929372A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202410105242.0

    申请日:2024-01-25

    Abstract: 本发明提供了二阶二维微分运算的超构表面边缘检测成像方法和系统,其中,方法包括:基于有限元法和二阶二维微分运算函数对超构表面的单元结构和相位分布进行仿真;基于仿真结果进行超构表面的制备,得到具有二阶二维微分运算函数特性的超构表面;基于所述超构表面构建若干边缘检测单元,基于待测图像的特性选择对应边缘检测单元进行边缘检测,得到所述待测图像的轮廓信息,完成边缘检测。本发明所述技术方案改善了传统基于空间光调制器的三维成像光学系统存在零级高级衍射且难以集成的问题,使元件体积大幅缩小,成像质量得到改善。

    一阶二维微分运算的超构透镜边缘检测成像方法和系统

    公开(公告)号:CN117849918A

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202410105139.6

    申请日:2024-01-25

    Abstract: 本发明提供了一阶二维微分运算的超构透镜边缘检测成像方法和系统,包括:步骤1:设计并加工具有一阶二维微分运算函数特性的超构透镜;步骤2:构建以超构透镜为核心的图像边缘检测模型,基于图像边缘检测模型对待测图像进行成像,得到边缘检测图像;步骤3:基于边缘检测图像获取待测图像的边缘轮廓,完成待测图像的边缘检测成像。本发明使用超构透镜产生一阶二维微分运算函数调制,不仅避免了零级衍射光斑的影响,提高了能量利用率和成像效率,而且提高了系统的集成化和轻量化。将一阶二维微分运算函数的特点与超构透镜的优势相结合,在能够进行高精度边缘检测的同时,降低了系统的复杂程度,使系统更易于集成。

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