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公开(公告)号：CN116288751A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211666687.3
申请日：2022-12-23
Applicant: 华侨大学 , 厦门纳莱科技有限公司
Abstract: 本发明涉及静电纺丝领域，公开了一种同轴光辅助多射流静电纺丝检测系统及其使用方法，包括静电纺丝装置、激光光源组件、图像采集模块和计算机控制模块，静电纺丝装置的纺丝喷头上设有同轴针头，激光光源组件用于在内针头内形成朝向垂直向下的激光光束，图像采集模块用于采集同轴针头静电纺丝时的射流图像，计算机控制模块用于根据射流图像通过图像处理算法得到电纺射流的特征信息，并自动控制高压电源和可控注射泵调整电纺电压和可控注射泵的注射速度，激光光束和同轴针头上的射流耦合，使得图像采集模块能够清楚采集射流的特征信息，有利于计算机控制模块及时调整供液速度和电压，保证射流的稳定性。
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公开(公告)号：CN116288751B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202211666687.3
申请日：2022-12-23
Applicant: 华侨大学 , 厦门纳莱科技有限公司
Abstract: 本发明涉及静电纺丝领域，公开了一种同轴光辅助多射流静电纺丝检测系统及其使用方法，包括静电纺丝装置、激光光源组件、图像采集模块和计算机控制模块，静电纺丝装置的纺丝喷头上设有同轴针头，激光光源组件用于在内针头内形成朝向垂直向下的激光光束，图像采集模块用于采集同轴针头静电纺丝时的射流图像，计算机控制模块用于根据射流图像通过图像处理算法得到电纺射流的特征信息，并自动控制高压电源和可控注射泵调整电纺电压和可控注射泵的注射速度，激光光束和同轴针头上的射流耦合，使得图像采集模块能够清楚采集射流的特征信息，有利于计算机控制模块及时调整供液速度和电压，保证射流的稳定性。
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公开(公告)号：CN114485476B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202210207622.6
申请日：2022-03-03
Applicant: 华侨大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明提供了一种晶圆测量设备、系统及方法，包括：减震平台、配置在减震平台上的二维运动模组、配置在二维运动模组上的晶圆放置台、配置在晶圆放置台上方的滑轨、可移动配置在滑轨上的光路产生系统、以及可移动配置在滑轨上的光路接收系统；晶圆放置台用于放置待测晶圆和基准平晶；二维运动模组用于带动所述晶圆放置台在平行与所述减震平台的平面进行二维平面运动；所述光路产生系统用于产生照射在所述待测晶圆和所述基准平晶上的准直光束；所述光路接收系统用于接收所述准直光束在所述待测晶圆和所述基准平晶反射产生的干涉图像。解决了现有技术中的测量系统无法测量面积较大的晶圆的问题和避免因光路细微的偏离，导致测量的结果存在误差。
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公开(公告)号：CN114485476A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210207622.6
申请日：2022-03-03
Applicant: 华侨大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明提供了一种晶圆测量设备、系统及方法，包括：减震平台、配置在减震平台上的二维运动模组、配置在二维运动模组上的晶圆放置台、配置在晶圆放置台上方的滑轨、可移动配置在滑轨上的光路产生系统、以及可移动配置在滑轨上的光路接收系统；晶圆放置台用于放置待测晶圆和基准平晶；二维运动模组用于带动所述晶圆放置台在平行与所述减震平台的平面进行二维平面运动；所述光路产生系统用于产生照射在所述待测晶圆和所述基准平晶上的准直光束；所述光路接收系统用于接收所述准直光束在所述待测晶圆和所述基准平晶反射产生的干涉图像。解决了现有技术中的测量系统无法测量面积较大的晶圆的问题和避免因光路细微的偏离，导致测量的结果存在误差。
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公开(公告)号：CN220202099U
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202321531018.5
申请日：2023-06-15
Applicant: 华侨大学 , 厦门纳莱科技有限公司
Abstract: 本实用新型涉及静电纺丝技术领域，具体为一种可调整式静电纺丝多同轴针喷头，包括导电接线柱，所述导电接线柱的表面一侧设置有喷头底座后板，所述导电接线柱的表面另一侧设置有喷头底座前板；导电板，所述导电板安装在导电接线柱的底端表面上，所述导电板的底端设置有同轴针模块，所述同轴针模块包括圆形调整固定件，所述圆形调整固定件的底端设置有鲁尔接头，所述鲁尔接头的底端设置有同轴针本体。本实用新型解决了静电纺丝多针喷头结构与同轴针匹配安装问题，以及多同轴针外针统一朝向的难点，从而进行大批量制备壳核结构及中空结构纳米纤维，提高纳米纤维膜的均匀性。
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