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公开(公告)号：CN116162369B
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202211477433.7
申请日：2022-11-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C09D4/00 , G03F7/09 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/004
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公开(公告)号：CN112859516A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011354547.3
申请日：2020-11-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题为提供成膜性优异并能展现高的蚀刻耐性、优异的扭曲耐性、填埋特性的有机膜材料、使用了该有机膜材料的图案形成方法、及适于如此的有机膜材料的聚合物。解决该课题的手段为一种有机膜形成用材料，是有机膜形成时使用的材料，其含有具有下列通式(1)表示的重复单元的聚合物、及有机溶剂。上述通式(1)中，AR1、AR2为也可以有取代基的苯环或萘环。W1为不具有芳香环的碳数2～20的2价有机基团，构成有机基团的亚甲基也可取代为氧原子或羰基。W2为至少具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。
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公开(公告)号：CN119861530A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411449786.5
申请日：2024-10-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的课题是提供基板上的成膜性及填埋特性优良，会抑制EBR步骤时的隆起，且作为多层抗蚀剂用的有机膜使用时的处理容忍度优良的有机膜形成用组成物、使用该组成物的有机膜形成方法、图案形成方法及前述有机膜形成用组成物中使用的聚合物。本发明的解决手段是一种有机膜形成用组成物，其特征在于包含(A)有机膜形成用材料、(B)具有下述通式(1)表示的重复单元的聚合物及(C)溶剂，[化1]#imgabs0#式中，W1是具有1个以上的下式(2)表示的含氟结构的碳数2～50的饱和或不饱和的2价有机基团，W2是碳数2～50的饱和或不饱和的2价有机基团。[化2]#imgabs1#
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公开(公告)号：CN119335814A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410957522.4
申请日：2024-07-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及光学光刻用涂布材料、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供包含不具有全氟烷基结构的表面活性剂的光学光刻用涂布材料、涂布后膜的平坦性优良，不仅涂布后连显影后的缺陷产生亦少的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种光学光刻用涂布材料，包含0.0001～3质量％由具有经氟原子取代的芳香族基、三氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲硫基或二氟甲硫基的树脂构成的表面活性剂。
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公开(公告)号：CN119165728A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202410781636.8
申请日：2024-06-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明的课题为提供基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)及填埋特性优良且抑制了EBR步骤时的隆起的有机膜形成用组成物、使用了该组成物的有机膜形成方法及图案形成方法。解决该课题的手段为一种有机膜形成用组成物，其特征为包含：(A)具有下列通式(1)表示的重复单元的聚合物，(B)有机膜形成用树脂，及(C)溶剂。[化1]#imgabs0#通式(1)中，R为碳数2～30的饱和或不饱和的2价有机基团。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115963695A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211211942.5
申请日：2022-09-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/11 , C07D209/40
Abstract: 本发明涉及有机膜形成材料、图案形成方法以及化合物。本发明的目的是提供一种化合物，能形成不仅耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良，且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜，并提供含有该化合物的有机膜形成材料。本发明的解决手段是一种有机膜形成材料，其特征在于含有下述通式(1)表示的化合物及有机溶剂。该通式(1)中，R1是下述式(2)的任一者，R2表示硝基、卤素原子、羟基、烷基氧基、炔基氧基、烯基氧基、直链状、分支状、或环状的烷基、三氟甲基、三氟甲基氧基；n表示0或1，m表示1～3的整数，p表示0或1，l表示0～2的整数；W是碳数2～40的2价有机基团。
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公开(公告)号：CN112213919B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202010660845.9
申请日：2020-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组合物、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题为提供通过使用含有碳含量高的茚并芴结构且具有热固化性的聚合物，而可展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性的有机膜形成用组合物；并提供使用该有机膜形成用组合物的图案形成方法、以及提供这样的有机膜形成用组合物的聚合物。该课题的解决方法为一种有机膜形成用组合物，含有：具有下述通式(1A)表示的部分结构作为重复单元的聚合物及有机溶剂。[化1]#imgabs0#该通式(1A)中，AR1、AR2为也可具有取代基的苯环或萘环，R为氢原子或碳数2～10的具有不饱和键的1价有机基团，R’为单键或W1，且W1为具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。
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公开(公告)号：CN112859516B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202011354547.3
申请日：2020-11-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题为提供成膜性优异并能展现高的蚀刻耐性、优异的扭曲耐性、填埋特性的有机膜材料、使用了该有机膜材料的图案形成方法、及适于如此的有机膜材料的聚合物。解决该课题的手段为一种有机膜形成用材料，是有机膜形成时使用的材料，其含有具有下列通式(1)表示的重复单元的聚合物、及有机溶剂。#imgabs0#上述通式(1)中，AR1、AR2为也可以有取代基的苯环或萘环。W1为不具有芳香环的碳数2～20的2价有机基团，构成有机基团的亚甲基也可取代为氧原子或羰基。W2为至少具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。
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公开(公告)号：CN116165843A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211478179.2
申请日：2022-11-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明的课题的解决手段是一种抗蚀剂下层膜材料，特征为含有：(A)具有下述通式(1A)表示的化合物的树脂、及(B)有机溶剂；前述通式(1A)表示的化合物的Mw/Mn为1.00≤Mw/Mn≤1.25，前述通式(1A)中，X为下述通式(1B)表示的基团，前述通式(1B)中，R1为氢原子、碳数1～10的有机基团、及下述通式(1C)表示的结构中的任一者，构成前述R1的结构中，令氢原子的比例为a，并令碳数1～10的有机基团或前述通式(1C)表示的结构的比例为b时，以(A)成分整体计，符合a+b＝1、0.2≤b≤0.8的关系。
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公开(公告)号：CN111948903A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010413700.9
申请日：2020-05-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其含有碳含量高而有热硬化性的聚合物，会展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性，并提供使用其的图案形成方法及适合其的聚合物。有机膜形成用组成物包含具下列通式(1A)或(1B)表示的部分结构的聚合物及有机溶剂。上述通式(1A)中，Ar1、Ar2表示也可以有取代基的苯环或萘环，X为单键或亚甲基，L为下列中的任一者；上式中的破折线代表价键，R为氢原子或碳数1～20的1价有机基团。 上述通式(1B)中，W1为羟基、碳数1～10的烷氧基或也可以有取代基的具至少1个以上的芳香环的有机基团，Ar1、Ar2、X、L同前所述。
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