公开(公告)号：CN101075550A

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200610064447.0

申请日：2006-10-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 塜谷敏彦 ,  中野瑞 ,  前田孝雄

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/31 ,  H01L21/311 ,  H01L21/205 ,  H01L21/67 ,  C23F4/00 ,  C23C16/00 ,  H01J37/32 ,  H01J37/00 ,  H05H1/00 ,  B32B9/00 ,  B32B33/00

CPC classification number: C23C4/04 ,  C23C4/02 ,  C23C24/04 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24413

Abstract: 当耐腐蚀构件暴露于含氯气体或其等离子体且随后暴露于环境气氛时，构件表面不吸收湿气。待暴露于含氯气体或其等离子体的构件表面不形成基体材料的氯化物颗粒。在用水冲洗构件后，冲洗水不会显示出对基体的腐蚀性质。构件不存在对基体的损伤而且构件也不会损失耐腐蚀能力。

公开(公告)号：CN101030524A

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN200610064446.6

申请日：2006-10-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 中野瑞 ,  塜谷敏彦 ,  前田孝雄

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/31 ,  H01L21/311 ,  H01L21/205 ,  H01L21/67 ,  C23F4/00 ,  C23C16/00 ,  H01J37/32 ,  H01J37/00 ,  H05H1/00 ,  B32B9/00 ,  B32B33/00

CPC classification number: C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C24/04 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32559

Abstract: 本发明涉及一种待暴露于含有卤素的气体气氛中或含有卤素的气体等离子体气氛中的耐腐蚀构件，该构件包括基体和在基体上沉积的多层，该多层包括提供最外表面的稀土氟化物层和在稀土氟化物层下面的具有小于5％的孔隙率的稀土氧化物层。