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发明公开
一种约瑟夫森隧道结结构及其制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN118695770A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202310273335.X

申请日：2023-03-21

Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 任洁 , 武香鸽 , 应利良 , 张雪 , 高扬

IPC: H10N60/01 , H10N60/12

Abstract: 本发明提供一种约瑟夫森隧道结及其制备方法，制备方法包括：于衬底层上图形化叠层结结构得到结区和底电极，于叠层结结构上设置初始绝缘层，平坦化初始绝缘层，形成结接触孔和电极接触孔，并形成引线层。本发明通过平坦化初始绝缘层，有效避免了结区上方接触孔对结尺寸的限制，从而可以实现亚微米级的约瑟夫森隧道结；同时利用势垒保护层的引入，减弱了高临界电流密度的约瑟夫森隧道结中的层间扩散及溅射对势垒层的破坏，从而提高了器件成品率；另外，在平坦化初始绝缘层时，配合图形化同时形成结区、底电极和填充图形，保证了片上图形密度的高度均匀性。

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