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公开(公告)号:CN118567027A
公开(公告)日:2024-08-30
申请号:CN202410791920.3
申请日:2024-06-19
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种双层低损耗铌酸锂光栅耦合器及其制备方法,所述耦合器由下至上包括衬底(1)、埋氧层(2)、氮化硅层(3)、铌酸锂层(4)和上包层(5)。本发明通过异质集成的方式,在单层铌酸锂光栅下另添加一层光栅,即可达到与现有技术相近的耦合效率,具有低损耗,工艺流程简单,制作工艺容差大的优势。