公开(公告)号：CN117572561A

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202311597089.X

申请日：2023-11-27

Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 游天桂 ,  宋秋冬 ,  伊艾伦 ,  王成立 ,  欧欣

IPC: G02B6/12

Abstract: 本申请公开了一种异质集成结构及制备方法，包括提供第一衬底，所述第一衬底包括光电层、光学隔离层和基底，所述光学隔离层位于所述基底与所述光电层之间；在所述光电层背离所述光学隔离层的表面形成光场调控层；所述光电层和所述光场调控层中二者择一的热光系数为正值，另一的热光系数为负值。本申请采用其一热光系数为正值、另一为负值的光电层和光场调控层相结合，调节异质集成结构中的光场分布，以修正温度变化带来的光学性能改变及器件性能抖动，大大降低异质集成材料整体的温度敏感性，热稳定性好。

公开(公告)号：CN117512777A

公开(公告)日：2024-02-06

申请号：CN202311596989.2

申请日：2023-11-27

Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 游天桂 ,  宋秋冬 ,  伊艾伦 ,  欧欣 ,  杨义

IPC: C30B29/12 ,  C30B33/00

Abstract: 本申请公开了一种氟化钙单晶材料的表面处理方法，包括对待处理氟化钙单晶材料进行化学机械抛光；在化学机械抛光过程中采用的化学抛光液包括二氧化硅抛光液；对抛光后的氟化钙单晶材料进行多步清洗，并干燥，得到目标氟化钙单晶材料。本申请采用二氧化硅抛光液进行化学机械抛光，并配合多步清洗，对氟化钙单晶材料进行表面处理，能够实现对氟化钙单晶材料的表面的超高精度处理，大大降低氟化钙单晶材料表面的粗糙度和颗粒度，避免在加工过程中对氟化钙单晶材料表面造成脆性破裂和划痕等表面或亚表面损伤，提升氟化钙单晶材料的面型精度和表面质量。