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公开(公告)号：CN109115707B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201811044523.0
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供一种瞬态吸收检测系统和方法，其中，通过脉冲泵浦激光激发样品；采用超短脉冲激光作为探测光并通过一组反射镜和分束镜获得空间分离的多个具有固定延时的平行探测脉冲；通过脉冲延时发生器控制泵浦光和探测光之间的同步和相对延时；通过分束镜将平行的多个探测脉冲分光；一部分探测光通过离轴抛物镜聚焦到测试样品上的泵浦光作用区域，再通过另一个离轴抛物镜对探测光进行收集和准直，另一部分探测光以同样方式聚焦穿过另一块参考样品；分别将这两部分探测光通过透镜聚焦于独立的电荷耦合器件上；最后通过数据采集设备分析每个探测子脉冲的对应光强，获得材料在泵浦激光作用下不同延时时刻的瞬态吸收强度。
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公开(公告)号：CN109128511A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201811060748.5
申请日：2018-09-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/352 , B23K26/03 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本申请提供一种激光抛光系统及方法。所述系统包括控制单元、激光发射器、光束整形组件、移动平台及激光干涉仪。待抛光物件固定在移动平台上并由移动平台带动；光束整形组件设置在激光发射器的激光光路上，用于对激光进行光束整形，并将整形后的激光投射到待抛光物件的待抛光表面上进行抛光；控制单元与激光干涉仪电性连接，用于控制激光干涉以对待抛光表面进行抛光面形检测得到对应的面形检测数据；控制单元还分别与激光发射器、光束整形组件及移动平台及电性连接，用于根据面形检测数据对激光发射器、光束整形组件及移动平台进行控制，使待抛光物件达到目标抛光效果。所述系统可对待抛光物件进行高精度抛光处理，提高物件抛光成品率。
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公开(公告)号：CN109115707A
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201811044523.0
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: G01N21/31 , G01N21/01 , G01N2021/0112
Abstract: 本发明实施例提供一种瞬态吸收检测系统和方法，其中，通过脉冲泵浦激光激发样品；采用超短脉冲激光作为探测光并通过一组反射镜和分束镜获得空间分离的多个具有固定延时的平行探测脉冲；通过脉冲延时发生器控制泵浦光和探测光之间的同步和相对延时；通过分束镜将平行的多个探测脉冲分光；一部分探测光通过离轴抛物镜聚焦到测试样品上的泵浦光作用区域，再通过另一个离轴抛物镜对探测光进行收集和准直，另一部分探测光以同样方式聚焦穿过另一块参考样品；分别将这两部分探测光通过透镜聚焦于独立的电荷耦合器件上；最后通过数据采集设备分析每个探测子脉冲的对应光强，获得材料在泵浦激光作用下不同延时时刻的瞬态吸收强度。
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公开(公告)号：CN109115684A
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201811045738.4
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供一种用于确定激光预处理能量水平的测量方法及测量系统。所述方法包括：获得待处理光学元件的单脉冲损伤阈值；根据所述单脉冲损伤阈值对所述待处理光学元件进行多脉冲损伤测试，获得所述待处理光学元件的预处理能量密度范围的上限值；根据所述上限值以不同脉冲数量对所述待处理光学元件进行预处理测试，得到可产生预处理效果的预处理能量密度范围的下限值。通过上述方式可确定能够提升待处理光学元件性能的预处理能量密度范围，进而便于通过对待处理光学元件进行预辐照减小材料疵病及减小损伤前驱尺寸，从而提高对待处理光学元件的激光损伤阈值。
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公开(公告)号：CN108892395A
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：CN201811058780.X
申请日：2018-09-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C23/00
Abstract: 本申请提供一种熔石英元件修复方法及熔石英元件，所述熔石英元件修复方法包括：步骤a，将待修复的熔石英元件进行清洁；步骤b，将熔石英元件在预设温度下与硅前驱气体进行反应，以使所述硅前驱气体通过与所述熔石英元件表面的羟基反应吸附在所述熔石英元件表面；步骤c，对所述熔石英元件进行清理；步骤d，采用氧前驱气体与经步骤c清理后的所述熔石英元件表面的硅前驱气体进行反应，在所述熔石英元件表面形成原子层；步骤e，对经步骤d处理后的所述熔石英元件进行清理；步骤f，重复步骤b～步骤e，直到形成的原子层将所述熔石英元件表面的裂纹填平，以完成对所述熔石英元件的修复。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108593604A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201810541799.3
申请日：2018-05-30
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/59
Abstract: 本发明提供的非线性性质测试系统和非线性性质测试方法，涉及光学性质测试技术领域。系统包括：用于输出泵浦光和探测光的激光输出单元；第一光处理单元，用于对泵浦光进行处理并输出至待测试样品；第二光处理单元，用于对探测光进行处理并得到第一探测光和第二探测光，第一探测光输出至待测试样品；能量探测单元，包括第一能量探测器和第二能量探测器，第一能量探测器获取从待测试样品透射出的第一探测光的第一能量值，第二能量探测器获取从第二光处理单元输出的第二探测光的第二能量值；计算处理单元，该计算处理单元根据第一能量值和第二能量值得到待测试样品的光学非线性性质。通过上述设置，可以实现泵浦光加载条件下的非线性测试。
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公开(公告)号：CN104386645A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410546087.2
申请日：2014-10-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种自掩膜制备随机亚波长宽带减反射微结构的方法，将玻璃基体置于具有混合反应气体的反应室中实施等离子体刻蚀制程，通过控制刻蚀参数使刻蚀过程中在玻璃基体的表面生成的纳米级岛状聚合物薄膜作为刻蚀过程的掩膜，以使在所述的玻璃基体的表面生成随机分布的折射率渐变的锥形减反射微纳结构。本发明无需任何掩膜技术仅需调整反应离子刻蚀的工艺即可在基体表面制备减反射效果明显的亚波长微结构，突破模版技术的诸多限制，大大简化了工艺流程；可以在不同种类的玻璃表面制备亚波长微结构，突破材料的限制；可以应用在任意形状光学元件表面而不会破坏原来结构，有利于实现具有复合功能的光学元件，有利于光学系统的集成化、小型化。
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公开(公告)号：CN116102238B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202211496906.8
申请日：2022-11-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供一种熔石英微纳光学器件加工方法，在3D打印固化后的基底模型上通过飞秒激光加工实验平台加工微纳结构，能够减少基底结构的加工时间，在保证微纳结构加工精度的同时，能大幅缩短加工时间，并能得到远高于单独使用3D打印获取的微纳结构的加工精度；由此可见，本发明结合了3D打印自由成型和飞秒激光加工精度的优势，能实现熔石英元件更加广阔的应用范围。
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公开(公告)号：CN109128511B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201811060748.5
申请日：2018-09-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/352 , B23K26/03 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本申请提供一种激光抛光系统及方法。所述系统包括控制单元、激光发射器、光束整形组件、移动平台及激光干涉仪。待抛光物件固定在移动平台上并由移动平台带动；光束整形组件设置在激光发射器的激光光路上，用于对激光进行光束整形，并将整形后的激光投射到待抛光物件的待抛光表面上进行抛光；控制单元与激光干涉仪电性连接，用于控制激光干涉以对待抛光表面进行抛光面形检测得到对应的面形检测数据；控制单元还分别与激光发射器、光束整形组件及移动平台及电性连接，用于根据面形检测数据对激光发射器、光束整形组件及移动平台进行控制，使待抛光物件达到目标抛光效果。所述系统可对待抛光物件进行高精度抛光处理，提高物件抛光成品率。
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公开(公告)号：CN108972230B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201811049182.6
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供一种光学元件加工装置及加工方法，该装置包括加工真空腔室以及多个团簇离子束产生装置，加工真空腔室内设置有用于放置待加工光学元件的运动台，各团簇离子束产生装置设置在加工真空腔室顶部，并连接在加工真空腔室的开口处。各团簇离子束产生装置用于对不同种类的源气进行处理以得到不同的团簇离子束，并将产生的团簇离子束输送至加工真空腔室，并作用于光学元件的表面以对光学元件进行面形修整加工。如此，在光学元件进样、抽真空及位置坐标确定的情况下，可实现不同团簇离子束加工模式的集成加工，保障光学元件在无衍生缺陷的高精度面形修整加工的前提下，提高光学元件的加工效率。
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