公开(公告)号：CN119002174A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202410572064.2

申请日：2024-05-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴庆熏 ,  文炯朗 ,  朴时均 ,  郭泽秀 ,  宋明洙 ,  李东炯 ,  范泰源 ,  宋东训

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/32

Abstract: 提供一种形成图案的方法，所述方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物以形成抗蚀剂层；沿着衬底的边缘涂布用于移除边缘珠粒的组合物；实行干燥和热处理；以及进行曝光和显影以形成抗蚀剂图案，其中在涂布用于移除边缘珠粒的组合物之后，在从衬底的边缘朝向衬底的中心约1mm到约30mm的区域中，抗蚀剂层的最大隆起高度小于或等于约300nm。

公开(公告)号：CN117795049A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280055024.X

申请日：2022-07-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  李旻映 ,  许伦旼 ,  具滋旼 ,  李东炯 ,  韩多顺 ,  金旼秀 ,  金宰贤

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/36 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  G03F7/42 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40

Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组成物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组成物来去除边珠的步骤，且所述组成物包括有机溶剂以及具有大于或等于30平方埃的AlogP3的化合物。

公开(公告)号：CN117597425A

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN202280047517.9

申请日：2022-07-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  李旻映 ,  许伦旼 ,  具滋旼 ,  李东炯 ,  韩多顺 ,  金旼秀 ,  金宰贤

IPC: C11D7/26

Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组合物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组合物来去除边珠的步骤，且所述组合物包括有机溶剂以及具有7g/mol·ea或大于7g/mol·ea的平均分子量的化合物。