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公开(公告)号：CN119937244A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202411572488.5
申请日：2024-11-06
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法，所述抗蚀剂组合物包括由式1‑1至1‑4之一表示的第一有机金属化合物和由式2表示的第二有机金属化合物：其中式1‑1至1‑4和2中的M11、M21、L11至L14、L21至L24、a11至a14、a21至a24、R11至R14、R21至R24、b11至b14、b21至b24、Y11至Y13、和X11至X13如说明书中所描述的。#imgabs0#式2#imgabs1#
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公开(公告)号：CN119431638A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202410962622.6
申请日：2024-07-18
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C08F120/20 , C08F220/20 , C08F220/06 , C08F220/18 , G03F7/004
Abstract: 提供聚合物、包括所述聚合物的含聚合物的组合物、以及通过使用所述含聚合物的组合物形成图案的方法，所述聚合物包括由式1表示的第一重复单元且具有50℃或更低的玻璃化转变温度，其中，在式1中，L11至L13、a11至a13、A11、R11、R12、b12和p1的描述在本说明书中提供。式1#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118689036A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410322282.0
申请日：2024-03-20
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法，其中所述抗蚀剂组合物可包括由下式1表示的有机金属化合物、和包括由下式2表示的重复单元的聚合物。对于式1和式2中的M11、R11、R12、n、A21、L21至L23、a21至a23、R21至R22、b22和p的描述，参见说明书。式1M11(R11)n(OR12)(4‑n)式2#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118259544A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202311455544.2
申请日：2023-11-03
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法，所述抗蚀剂组合物包括由下式1表示的有机金属化合物、和包括由下式2表示的重复单元的聚合物，其中，在式1和2中，M11、R11、R12、n、A21、L21‑L23、a21‑a23、R21‑R24、b22、p、和X21如说明书中所描述的。式1M11(R11)n(OR12)(4‑n)式2#imgabs0#
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公开(公告)号：CN117624002A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202310295692.6
申请日：2023-03-24
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/20 , G03F7/00 , C07D333/76 , C07C65/01 , G03F7/004
Abstract: 提供由式1表示的羧酸盐、包括其的光致抗蚀剂组合物、和通过使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法。其中，在b15式、n111中、，n12A11和、RM1+1如说明‑R15、书中所描述的。式1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119684351A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411326830.3
申请日：2024-09-23
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供有机金属化合物、包括其的抗蚀剂组合物和使用所述抗蚀剂组合物的图案形成方法，所述有机金属化合物由式1‑1至1‑4之一表示，式1‑1至1‑4中的M11、Q11至Q14、b11至b14、R11至R14、Y11至Y13、和X11至X13如说明书中所描述的。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118255802A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202311214564.0
申请日：2023-09-19
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供有机金属化合物、包括其的抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法，所述有机金属化合物由下式1‑1至1‑4之一表示。对于式1‑1至1‑4中的M11、L11‑L14、a11‑a14、R11‑R14、X11‑X14、n11‑n15、Y11‑Y13、和R15‑R17的描述，参见说明书。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116165842A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211385369.X
申请日：2022-11-07
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/38 , C08F220/18
Abstract: 提供光酸产生剂、包括其的光致抗蚀剂组合物以及通过使用光酸产生剂形成图案的方法。所述光酸产生剂包括在曝光时产生酸的单体和酸不稳定单体的共聚物，所述酸不稳定单体对于显影溶剂的溶解性通过经由酸的分解而改变，其中所述共聚物由式1表示，其中，在式1中，x、y、L、A‑、B+、R1、R2、和R3各自与详细描述中所描述的相同。[式1]
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公开(公告)号：CN106961751A
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201611130231.X
申请日：2016-12-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H05B3/14
CPC classification number: H05B3/141
Abstract: 提供包括纳米材料填料的加热元件、其制造方法和包括其的设备。所述加热元件包括基体材料和纳米材料型的填料。所述纳米材料型的填料可为纳米片填料或者纳米棒填料。所述纳米片填料可具有大于给定值例如1,250S/m的电导率。所述填料可包括如下的至少一种或至少两种：氧化物、硼化物、碳化物、和硫属化物。所述基体材料可为玻璃粉。所述玻璃粉可为例如氧化硅或者添加了添加剂的氧化硅。
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