半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN104810402A

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201510034190.3

    申请日:2015-01-23

    Abstract: 本发明构思提供了半导体器件及其制造方法。半导体器件可以包括:第一鳍区域;第二鳍区域;隔离绝缘层,使第一鳍区域与第二鳍区域隔离并具有岛形状;第一栅极,交叉第一鳍区域;第二栅极,交叉第二鳍区域;以及第三栅极,覆盖隔离绝缘层的侧壁和顶表面并交叉隔离绝缘层。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110224027A

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201910394282.0

    申请日:2015-01-23

    Abstract: 本发明构思提供了半导体器件及其制造方法。半导体器件可以包括:第一鳍区域;第二鳍区域;隔离绝缘层,使第一鳍区域与第二鳍区域隔离并具有岛形状;第一栅极,交叉第一鳍区域;第二栅极,交叉第二鳍区域;以及第三栅极,覆盖隔离绝缘层的侧壁和顶表面并交叉隔离绝缘层。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110224027B

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN201910394282.0

    申请日:2015-01-23

    Abstract: 本发明构思提供了半导体器件及其制造方法。半导体器件可以包括:第一鳍区域;第二鳍区域;隔离绝缘层,使第一鳍区域与第二鳍区域隔离并具有岛形状;第一栅极,交叉第一鳍区域;第二栅极,交叉第二鳍区域;以及第三栅极,覆盖隔离绝缘层的侧壁和顶表面并交叉隔离绝缘层。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN104810402B

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:CN201510034190.3

    申请日:2015-01-23

    Abstract: 本发明构思提供了半导体器件及其制造方法。半导体器件可以包括:第一鳍区域;第二鳍区域;隔离绝缘层,使第一鳍区域与第二鳍区域隔离并具有岛形状;第一栅极,交叉第一鳍区域;第二栅极,交叉第二鳍区域;以及第三栅极,覆盖隔离绝缘层的侧壁和顶表面并交叉隔离绝缘层。

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