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公开(公告)号：CN101634813A
公开(公告)日：2010-01-27
申请号：CN200910164158.1
申请日：2005-10-11
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
CPC classification number: G03F1/36 , G03F7/701 , G03F7/70125 , G03F7/70566
Abstract: 公开了一种改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法。一种曝光装置和该曝光装置的光掩模，能够仅通过一个曝光工艺来形成正交线/间隔电路图形。该光掩模包括：在第一方向上取向的第一线/间隔图形、在第二方向上取向的第二线/间隔图形和用作偏振器的占据线/间隔图形的间隔的格状图形。该曝光装置还包括改进照明系统。该改进照明系统可以为具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统。光传输区用作分别在第一和第二方向上偏振入射于其上的光的偏振器。
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公开(公告)号：CN1577083A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410059845.4
申请日：2004-06-25
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F1/20 , Y10S430/143
Abstract: 一种模版掩模，包括具有膜片区和限制膜片区的边界区的膜片形成薄层。膜片区具有多个图形区和非图形区，图形区包括可以透过粒子束的孔，非图形区插入在图形区之间。主支柱支撑膜片区并形成在膜片形成薄层的边界区上。在膜片图形区内部的非图形区中形成辅助支柱，以致辅助支柱将膜片区分为多个分开的膜片区。辅助支柱支撑分开的膜片区。
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公开(公告)号：CN1734340B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200510088505.9
申请日：2005-08-02
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
CPC classification number: G03F7/70158 , G03F7/70125 , G03F7/70566
Abstract: 用于空间控制光偏振的光学系统，及其制造方法，包括光源，用于生成指定波长的光束、射束成形器，用于将由光源生成的光束分成多个局部射束；以及偏振控制器，控制局部射束的偏振状态。偏振控制器可以形成在射束成形器上或与射束成形器分开。
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公开(公告)号：CN1577083B
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200410059845.4
申请日：2004-06-25
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F1/20 , Y10S430/143
Abstract: 一种模版掩模，包括具有膜片区和限制膜片区的边界区的膜片形成薄层。膜片区具有多个图形区和非图形区，图形区包括可以透过粒子束的孔，非图形区插入在图形区之间。主支柱支撑膜片区并形成在膜片形成薄层的边界区上。在膜片图形区内部的非图形区中形成辅助支柱，以致辅助支柱将膜片区分为多个分开的膜片区。辅助支柱支撑分开的膜片区。
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公开(公告)号：CN1760755A
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200510108595.3
申请日：2005-10-11
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
IPC: G03F1/14 , G03F7/20 , G02B27/28 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/36 , G03F7/701 , G03F7/70125 , G03F7/70566
Abstract: 一种曝光装置和该曝光装置的光掩模，能够仅通过一个曝光工艺来形成正交线/间隔电路图形。该光掩模包括：在第一方向上取向的第一线/间隔图形、在第二方向上取向的第二线/间隔图形和用作偏振器的占据线/间隔图形的间隔的格状图形。该曝光装置还包括改进照明系统。该改进照明系统可以为具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统。光传输区用作分别在第一和第二方向上偏振入射于其上的光的偏振器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101634813B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200910164158.1
申请日：2005-10-11
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
CPC classification number: G03F1/36 , G03F7/701 , G03F7/70125 , G03F7/70566
Abstract: 公开了一种改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法。一种曝光装置和该曝光装置的光掩模，能够仅通过一个曝光工艺来形成正交线/间隔电路图形。该光掩模包括：在第一方向上取向的第一线/间隔图形、在第二方向上取向的第二线/间隔图形和用作偏振器的占据线/间隔图形的间隔的格状图形。该曝光装置还包括改进照明系统。该改进照明系统可以为具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统。光传输区用作分别在第一和第二方向上偏振入射于其上的光的偏振器。
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公开(公告)号：CN1734340A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200510088505.9
申请日：2005-08-02
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
CPC classification number: G03F7/70158 , G03F7/70125 , G03F7/70566
Abstract: 用于空间控制光偏振的光学系统，及其制造方法，包括光源，用于生成指定波长的光束、射束成形器，用于将由光源生成的光束分成多个局部射束；以及偏振控制器，控制局部射束的偏振状态。偏振控制器可以形成在射束成形器上或与射束成形器分开。
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公开(公告)号：CN1862385B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200610075436.2
申请日：2006-04-14
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了用于检测光刻工艺中的焦点变化的系统和方法，使用具有适于印刷具有临界尺寸的测试特征的光掩膜，可以将其测量和分析来确定光刻工艺期间从曝光工具的最佳焦点位置的离焦的幅度和方向。
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公开(公告)号：CN1862385A
公开(公告)日：2006-11-15
申请号：CN200610075436.2
申请日：2006-04-14
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了用于检测光刻工艺中的焦点变化的系统和方法，使用具有适于印刷具有临界尺寸的测试特征的光掩膜，可以将其测量和分析来确定光刻工艺期间从曝光工具的最佳焦点位置的离焦的幅度和方向。
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公开(公告)号：CN1854893A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610074348.0
申请日：2006-04-17
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金淏哲
IPC: G03F1/14 , G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供了一种光掩模，设计光掩模结构以提供用于印刷亚波长特征的增大的光刻工艺窗口。在一方面中，光掩模包括掩模基板和掩模图案，掩模基板对给定波长的曝光光透明，掩模图案形成于所述基板的表面上。掩模图案包括由第一和第二临界边缘界定的可印刷元件，其中可印刷元件包括形成于所述第一和第二临界边缘之间的内部非印刷特征。内部非印刷特征适于在光刻工艺期间针对给定波长的曝光光提高在可印刷元件的第一和第二临界边缘处的图像对比度。非印刷元件包括空间特征和沟槽特征，空间特征暴露所述掩模基板的与所述第一和第二临界边缘之间的所述可印刷元件对准的区域，沟槽特征形成于掩模基板中且与空间特征对准。
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