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公开(公告)号:CN101231464B
公开(公告)日:2012-02-22
申请号:CN200810003862.4
申请日:2008-01-24
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: C07D493/08 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含:约4%至约10重量%的光致抗蚀剂树脂;约0.1%至约0.5重量%的光致酸生成剂,所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团;和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致抗蚀剂图案。
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公开(公告)号:CN101231464A
公开(公告)日:2008-07-30
申请号:CN200810003862.4
申请日:2008-01-24
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: C07D493/08 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含:约4%至约10重量%的光致抗蚀剂树脂;约0.1%至约0.5重量%的光致酸生成剂,所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团;和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致抗蚀剂图案。
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