公开(公告)号：CN111142339A

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201911076914.5

申请日：2019-11-06

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 刘灏 ,  林彩默 ,  张圣虎 ,  崔珉硕

IPC: G03F7/20

Abstract: 可提供一种极紫外(EUV)聚光设备，所述设备包括：主体，其具有凹陷内部并且被构造为旋转；锡产生器，其被构造为产生锡滴并喷射锡滴；锡捕获器，其被构造为处理喷射的锡滴；保护盖，其被构造为阻止锡滴落入主体中；以及旋转导向件，其被构造为使主体旋转。

公开(公告)号：CN110344026A

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：CN201910071759.1

申请日：2019-01-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 姜信在 ,  韩东勋 ,  金度亨 ,  朴景旭 ,  裴钟容 ,  李先秀 ,  李寅载 ,  李全一 ,  林彩默

IPC: C23C16/455

Abstract: 提供了一种层沉积方法和层沉积设备。在层沉积方法中，将基底装载到工艺腔室中。将气体充入气体填充罐至预定充入压强。升高气体的压强至大于预定充入压强的压强。将气体导入工艺腔室中。

公开(公告)号：CN111142339B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN201911076914.5

申请日：2019-11-06

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 刘灏 ,  林彩默 ,  张圣虎 ,  崔珉硕

IPC: G03F7/20

Abstract: 可提供一种极紫外(EUV)聚光设备，所述设备包括：主体，其具有凹陷内部并且被构造为旋转；锡产生器，其被构造为产生锡滴并喷射锡滴；锡捕获器，其被构造为处理喷射的锡滴；保护盖，其被构造为阻止锡滴落入主体中；以及旋转导向件，其被构造为使主体旋转。

公开(公告)号：CN110344026B

公开(公告)日：2023-01-24

申请号：CN201910071759.1

申请日：2019-01-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 姜信在 ,  韩东勋 ,  金度亨 ,  朴景旭 ,  裴钟容 ,  李先秀 ,  李寅载 ,  李全一 ,  林彩默

IPC: C23C16/455

Abstract: 提供了一种层沉积方法和层沉积设备。在层沉积方法中，将基底装载到工艺腔室中。将气体充入气体填充罐至预定充入压强。升高气体的压强至大于预定充入压强的压强。将气体导入工艺腔室中。