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公开(公告)号：CN116027638A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202211310902.6
申请日：2022-10-25
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 金禹成 , 巴伊拉姆·耶尼卡亚 , 明迪·李 , 周欣 , 李熙俊 , 曹宇镛
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种用于制造半导体装置的电子装置的操作方法。该操作方法包括：接收半导体装置的布局图像；通过基于布局图像的主要特征生成辅助特征来生成中间图像；通过基于中间图像执行仿真来评估处理结果；以及通过基于处理结果校正中间图像的主要特征的形状和/或辅助特征的形状来校正中间图像。
