一种测定碳化硅陶瓷材料中氧含量的方法

    公开(公告)号:CN111257267B

    公开(公告)日:2023-03-17

    申请号:CN202010235624.7

    申请日:2020-03-30

    IPC分类号: G01N21/35 G01N25/20

    摘要: 本发明公开了一种测定碳化硅陶瓷材料中氧含量的方法。所述测定碳化硅陶瓷材料中氧含量的方法包括:首先采用金属氧化物为标准品,以石墨材料稀释金属氧化物标准品形成标准物质,建立氧元素标准工作曲线,之后使用镍材料包裹碳化硅陶瓷材料,并将包裹后的碳化硅陶瓷材料与石墨材料均匀混合,然后采用氧氮分析装置进行分析,从而测定碳化硅陶瓷材料的氧含量,所述曲线的相关系数R2≥0.99。本发明的测定方法在检测陶瓷材料中氧含量样品时具有精确度高、重复性好、样品熔融更充分、操作简单、快速、成本低等优点;同时,本发明在检测时添加石墨材料,能够有效避免石墨坩埚烧穿情况的发生。

    一种石墨烯热界面材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115231564A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202110436511.8

    申请日:2021-04-22

    IPC分类号: C01B32/194 C08L83/04 C08K7/24

    摘要: 本申请公开了一种石墨烯热界面材料及其制备方法和应用,所述热界面材料包括三维石墨烯骨架;所述三维石墨烯骨架包括石墨烯片层,所述石墨烯片层间具有垂直取向的微孔。本申请石墨烯热界面材料具备连续均匀垂直取向微孔,在水平方向具有连续排列的石墨烯,石墨烯片层中并未破坏能够保持石墨烯本身的优异的热学特性,可广泛应用于导热复合材料和热界面材料领域。本申请首次提出通过温和发泡法制备热界面材料的方法,制备得到蓬松石墨烯三维骨架,该骨架具有层层高度取向的多孔结构。所述方法操作简单快速、成本低廉。

    金刚石膜刻蚀方法、图形化金刚石膜及其应用

    公开(公告)号:CN113621947A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN202010374585.9

    申请日:2020-05-06

    IPC分类号: C23C16/56 C23C16/27 C23C16/02

    摘要: 本申请公开了一种金刚石膜刻蚀方法、图形化金刚石膜及其应用,所述方法包括:将基片置于腔体内,所述基片包括硅片和金刚石膜,所述硅片的一面设有由沟槽形成的图形,所述金刚石膜覆盖在所述硅片的沟槽所在的表面上且填充满所述沟槽;在所述腔体内形成等离子体对所述基片进行刻蚀,得到图形化金刚石膜,其中,所述刻蚀的具体条件包括:H2和O2作为气源,且O2的流量为H2流量的1~6%;微波作为能量源,且微波功率为3~8KW;刻蚀温度为600~700℃。该方法无需设置掩体,刻蚀完成后直接形成图形化金刚石膜,无需再去除掩体,操作简单、效率高。

    新型纤维增韧陶瓷基复合材料、其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN113233909A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110538205.5

    申请日:2021-05-18

    摘要: 本发明公开了一种新型纤维增韧陶瓷基复合材料、其制备方法与应用。所述新型纤维增韧陶瓷基复合材料包括基体和增强增韧相,所述基体为陶瓷材料,所述增强增韧相为纤维,并且,所述纤维表面具有层状RExSiyCz界面层,RE包括Sc、Y及镧系元素。本发明将镧系元素硅碳化物作为纤维增强陶瓷基复合材料的界面层,利用其独特的层状结构,在界面产生裂纹偏转、层间撕裂、层间滑移、片状晶褶皱等断裂能吸收机制,可有效抑制裂纹在复合材料内部的扩展,从而可有效提高复合材料的断裂韧性。本发明所采用的界面层材料镧系元素硅碳化物具有优异的耐高温耐氧化耐腐蚀性能,所获得的陶瓷基复合材料可应用在航空航天及核能系统等极端服役环境中。

    一种高透光电磁屏蔽膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN113079683A

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202010009667.3

    申请日:2020-01-06

    IPC分类号: H05K9/00

    摘要: 本发明提供了一种高透光电磁屏蔽膜,包括:透明衬底,以及设置于衬底两侧的透明导电层;所述两侧的透明导电层独立的选自由碳材料、银纳米线、超薄金属和导电氧化物中的一种或多种制备而成的单层或多层薄膜。本发明通过在透明衬底两面设有高导电的透明导电层,当入射微波电磁波经第一电导面反射并进入衬底,剩余电磁波在基底中继续传播,到达第二电导面时也会产生大量反射。电磁波会在两层透明导电层间发生多重反射,更好的缓和高透光和强屏蔽性能之间的关系,使所述高透光电磁屏蔽膜在具有高透明性的同时还具有强电磁屏蔽。