发明授权
- 专利标题： Sputtering process and apparatus
- 专利标题（中）： 溅射工艺和设备
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申请号： US438482申请日： 1974-01-31
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公开(公告)号： US4166018A公开(公告)日： 1979-08-28
- 发明人: John S. Chapin
- 申请人： John S. Chapin
- 申请人地址： NJ Montvale
- 专利权人： Airco, Inc.
- 当前专利权人： Airco, Inc.
- 当前专利权人地址： NJ Montvale
- 主分类号： C23C14/36
- IPC分类号： C23C14/36 ; C23C14/35 ; H01J37/34 ; C23C15/00
摘要：
Sputtering apparatus is described in which a magnetic field is formed adjacent a planar sputtering surface, the field comprising arching lines of flux over a closed loop erosion region on the sputtering surface.
公开/授权文献
- US4537295A Clutch disc assembly with torsional oscillation dampers 公开/授权日：1985-08-27
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