发明申请
- 专利标题： PHOTORESIST STRIPPING AND CLEANING COMPOSITION, METHOD OF ITS PREPARATION AND ITS USE
- 专利标题（中）： 光电子剥离和清洁组合物，其制备方法及其用途
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申请号： US14381039申请日： 2013-03-18
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公开(公告)号： US20150044839A1公开(公告)日： 2015-02-12
- 发明人: Simon Braun , Christian Bittner , Andreas Klipp
- 申请人： BASF SE
- 申请人地址： DE Ludwigshafen
- 专利权人： BASF SE
- 当前专利权人： BASF SE
- 当前专利权人地址： DE Ludwigshafen
- 国际申请： PCT/IB2013/052141 WO 20130318
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42 ; H01L29/161 ; H01L29/16 ; H01L21/02 ; H01L21/265 ; H01L21/266 ; H01L21/027 ; C11D7/50 ; H01L29/66
摘要：
A photoresist stripping and cleaning composition free from N-alkylpyrrolidones and added quaternary ammonium hydroxides comprising a component (A) which comprises the polar organic solvents N-methylimidazole, dimethylsulfoxide and 1-aminopropane-2-ol.
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