发明申请
- 专利标题： SULPHONIUM SALT INITIATORS
- 专利标题（中）： 硫酸钡发射器
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申请号： US12681785申请日： 2008-09-22
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公开(公告)号： US20100297540A1公开(公告)日： 2010-11-25
- 发明人: Pascal Hayoz , Hitoshi Yamato , Toshikage Asakura
- 申请人： Pascal Hayoz , Hitoshi Yamato , Toshikage Asakura
- 申请人地址： DE LUDWIGSHAFEN
- 专利权人： BASF SE
- 当前专利权人： BASF SE
- 当前专利权人地址： DE LUDWIGSHAFEN
- 优先权： EP07118194.5 20071010
- 国际申请： PCT/EP08/62587 WO 20080922
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; C07D409/14 ; C07D407/14 ; G03F7/004 ; G03F7/20
摘要：
Compounds of the Formula (I), wherein L1, L′1, L″1, L2, L′2, L″2, L3, L′3, L″3, L4, L′4 and L″4 for example are hydrogen or COT; R, R′ and R″ for example are hydrogen, C6-C12aryl or C3-C20heteroaryl; X, X′ and X″ for example are O, S, single bond, NRa or NCORa, T is for example hydrogen, C1-C20alkyl, C3-C12cycloalkyl, C2-C20alkenyl, C5-C12cycloalkenyl, C7-C18cycloalkylenaryl, C5-C18cycloalkylenheteroaryl, C6-C14aryl, providedthat at least one of R, R′ or R″ is unsubstituted or substituted C3-C20heteroaryl; and Y is an inorganic or organic anion; are suitable as photolatent acid generators.
公开/授权文献
- US08652752B2 Sulphonium salt initiators 公开/授权日：2014-02-18
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