发明授权
- 专利标题: 相变存储器件及其制造方法
- 专利标题(英): Phase-change memory device and method of manufacturing same
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申请号: CN200610162549.6申请日: 2006-11-27
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公开(公告)号: CN1983615B公开(公告)日: 2010-12-08
- 发明人: 早川努
- 申请人: 尔必达存储器株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 尔必达存储器株式会社
- 当前专利权人: 美光科技公司
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 谷惠敏; 钟强
- 优先权: 2005-341290 2005.11.26 JP
- 主分类号: H01L27/24
- IPC分类号: H01L27/24 ; H01L23/522 ; H01L23/532 ; H01L21/82 ; H01L21/768 ; H01L45/00
摘要:
一种相变存储器件,具有相变层,具有与相变层保持接触的一端的加热器电极,不同种材料的接触栓塞,具有由第一导电材料制成并与该加热器电极的另一端保持接触的第一导电材料栓塞,以及由具有小于第一导电材料的比电阻的第二导电材料构成的第二导电材料栓塞,第一导电材料栓塞和第二导电材料栓塞至少通过其相应侧表面保持互相接触,加热器电极和第二导电材料栓塞互相不是重叠关系,以及电连接到第二导电材料栓塞的导电层。
公开/授权文献
- CN1983615A 相变存储器件及其制造方法 公开/授权日:2007-06-20
IPC分类: