发明授权
- 专利标题: 连续电镀制作线路组件的方法及线路组件结构
- 专利标题(英): Method for fabricating a circuitry component by continuous electroplating and circuitry component structure
-
申请号: CN200610099490.0申请日: 2006-07-24
-
公开(公告)号: CN1901161B公开(公告)日: 2010-10-27
- 发明人: 林茂雄 , 罗心荣 , 周秋明 , 周健康
- 申请人: 米辑电子股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾
- 专利权人: 米辑电子股份有限公司
- 当前专利权人: 高通股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾
- 代理机构: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
- 代理商 孙皓晨
- 优先权: 60/701,849 2005.07.22 US
- 主分类号: H01L21/822
- IPC分类号: H01L21/822 ; H01L21/768 ; H01L21/60 ; H01L27/04 ; H01L23/522 ; H01L23/485
摘要:
本发明提供一种形成覆盖有聚醯亚胺(polyimide,PI)的连续电镀结构的方法,其包括(a)提供一半导体基底;(b)在该半导体基底上形成一黏着/阻障层;(c)在该黏着/阻障层上形成复数金属线路层(metal trace);(d)在该些金属线路层中选择一目标区域做为接垫,并在该接垫上形成一金属层;(e)去除未被覆盖的该黏着/阻障层;以及(f)形成一聚醯亚胺在该半导体基底上,并暴露出该金属层。
公开/授权文献
- CN1901161A 连续电镀制作线路组件的方法及线路组件结构 公开/授权日:2007-01-24
IPC分类: