发明授权
- 专利标题: 半导体器件及其制造方法
- 专利标题(英): Semiconductor device and method of manufacture the same
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申请号: CN200510138045.6申请日: 2005-11-22
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公开(公告)号: CN1822351B公开(公告)日: 2014-08-20
- 发明人: 山本良明 , 田中幸一郎 , 矶部敦生 , 大柄根大辅 , 山崎舜平
- 申请人: 株式会社半导体能源研究所
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 吴立明; 王忠忠
- 优先权: 2004-338229 2004.11.22 JP
- 主分类号: H01L21/84
- IPC分类号: H01L21/84 ; H01L27/12 ; G02F1/13
摘要:
半导体器件及其制造方法,本发明的目的在于提供一种通过不同于专利文献1中公开的方法从衬底分离薄膜晶体管和包括该薄膜晶体管的电路或半导体器件,并将该薄膜晶体管和电路或半导体器件移位到具有柔性的衬底上的方法。根据本发明,在绝缘膜处形成了大开口或多个开口,在开口处形成了连接薄膜晶体管的导电膜,以及移除了剥离层,然后,将具有薄膜晶体管的层移位到提供有导电膜等的衬底上。根据本发明的薄膜晶体管具有通过激光照射结晶化的半导体膜,并且防止不必用激光照射的剥离层暴露在激光照射下。
公开/授权文献
- CN1822351A 半导体器件及其制造方法 公开/授权日:2006-08-23
IPC分类: