发明授权
- 专利标题： 用于密封腔室的方法和装置
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申请号： CN200510103894.8申请日： 2005-06-02
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公开(公告)号： CN1778986B公开(公告)日： 2015-08-19
- 发明人: J·M·怀特 , S·库利塔 , W·N·斯特林 , Y·塔纳斯
- 申请人： 应用材料公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 顾峻峰
- 优先权： 60/576,906 2004.06.02 US; 60/587,114 2004.07.12 US
- 主分类号： C23C14/56
- IPC分类号： C23C14/56 ; C23C16/54 ; C03C17/00 ; H01L21/67
摘要：
在特定的方面，提供了一种真空隔绝室，真空隔绝室包括具有至少一个封接面壁的主体，该封接面壁包括封接面。封接面壁具有与封接面相邻的、适于放入和取出基板的开口。主体进一步包括多个侧壁。真空隔绝室还包括与主体相连接的顶部。顶部包括一个或多个将顶部划分为第一部分和第二部分的开口。真空隔绝室进一步包括一个或多个适于覆盖顶部的每个开口的密封件。每个顶部密封件吸收顶部第一部分相对于顶部第二部分的运动。本发明还提供了许多其它方面。
公开/授权文献
- CN1778986A 用于密封腔室的方法和装置 公开/授权日：2006-05-31
IPC分类:
