发明公开
- 专利标题： 用于除去蚀刻残留物的组合物基材及其应用
- 专利标题（英）： Compositions substrate for removing etching residue and use thereof
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申请号： CN03823216.2申请日： 2003-09-26
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公开(公告)号： CN1688930A公开(公告)日： 2005-10-26
- 发明人: M·埃格伯
- 申请人： 空气产品及化学制品股份有限公司
- 申请人地址： 美国宾夕法尼亚州
- 专利权人： 空气产品及化学制品股份有限公司
- 当前专利权人： 弗萨姆材料美国有限责任公司
- 当前专利权人地址： 美国宾夕法尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 徐迅
- 优先权： 10/254,785 2002.09.26 US
- 国际申请： PCT/US2003/030237 2003.09.26
- 国际公布： WO2004/030038 EN 2004.04.08
- 进入国家日期： 2005-03-28
- 主分类号： G03C5/00
- IPC分类号： G03C5/00 ; C25F5/00 ; C25F1/00 ; C25F3/30 ; B08B6/00 ; C03C23/00 ; C23G1/00 ; C23G1/02
摘要：
包含某些有机溶剂和氟源的组合物能用于除去光致抗蚀剂和蚀刻残留物。
公开/授权文献
- CN100367114C 用于除去蚀刻残留物的组合物及其应用 公开/授权日：2008-02-06
