发明公开

  • 专利标题: 等离子体辅助增强涂覆
  • 专利标题(英): Plasma-assisted reinforced coating
  • 申请号: CN03810270.6
    申请日: 2003-05-07
  • 公开(公告)号: CN1653205A
    公开(公告)日: 2005-08-10
  • 发明人: D·库马尔S·库马尔
  • 申请人: 达纳公司
  • 申请人地址: 美国俄亥俄州
  • 专利权人: 达纳公司
  • 当前专利权人: 美国马萨诸塞州
  • 当前专利权人地址: 美国俄亥俄州
  • 代理机构: 北京市中咨律师事务所
  • 代理商 杨晓光; 李峥
  • 优先权: 60/378,693 2002.05.08 US; 60/430,677 2002.12.04 US; 60/435,278 2002.12.23 US
  • 国际申请: PCT/US2003/014124 2003.05.07
  • 国际公布: WO2003/095699 EN 2003.11.20
  • 进入国家日期: 2004-11-08
  • 主分类号: C23C14/22
  • IPC分类号: C23C14/22
等离子体辅助增强涂覆
摘要:
本发明提供了一种用于激发、调节和维持等离子体(615)的用于涂覆物体(250)的方法和装置。在一个实施例中,涂覆物体(250)表面的方法包括:在等离子体催化剂(240)存在的情况下通过使气体受到电磁辐射在腔(230)中形成等离子体(615),并通过使用例如激光器(500)激发该材料(510),将至少一种涂覆材料(510)加入等离子体(615)中。允许该材料(510)沉积在物体(250)的表面上以形成涂层。本发明还提供了各种类型的等离子体(240)催化剂。
公开/授权文献
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