发明公开
- 专利标题: 等离子体辅助增强涂覆
- 专利标题(英): Plasma-assisted reinforced coating
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申请号: CN03810270.6申请日: 2003-05-07
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公开(公告)号: CN1653205A公开(公告)日: 2005-08-10
- 发明人: D·库马尔 , S·库马尔
- 申请人: 达纳公司
- 申请人地址: 美国俄亥俄州
- 专利权人: 达纳公司
- 当前专利权人: 美国马萨诸塞州
- 当前专利权人地址: 美国俄亥俄州
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 杨晓光; 李峥
- 优先权: 60/378,693 2002.05.08 US; 60/430,677 2002.12.04 US; 60/435,278 2002.12.23 US
- 国际申请: PCT/US2003/014124 2003.05.07
- 国际公布: WO2003/095699 EN 2003.11.20
- 进入国家日期: 2004-11-08
- 主分类号: C23C14/22
- IPC分类号: C23C14/22
摘要:
本发明提供了一种用于激发、调节和维持等离子体(615)的用于涂覆物体(250)的方法和装置。在一个实施例中,涂覆物体(250)表面的方法包括:在等离子体催化剂(240)存在的情况下通过使气体受到电磁辐射在腔(230)中形成等离子体(615),并通过使用例如激光器(500)激发该材料(510),将至少一种涂覆材料(510)加入等离子体(615)中。允许该材料(510)沉积在物体(250)的表面上以形成涂层。本发明还提供了各种类型的等离子体(240)催化剂。
公开/授权文献
- CN100441732C 等离子体辅助增强涂覆 公开/授权日:2008-12-10
IPC分类: