本发明提供了一种适合用于抗反射涂层(ARC)的聚合物、含有该聚合物的ARC组合物、其制备方法以及其使用方法。本发明的聚合物特别适用于超微平版印刷工艺,例如使用KrF(248nm)、ArF(193nm)或F2(157nm)激光器作光源的超微平版印工艺。该聚合物包括一种生色团,它能吸收平版印刷工艺中所使用波长的光,从而大大降低或防止了光的背反射和CD变化的问题。本发明的ARC还可大大降低或消除驻波影响及反射缺口。因此,本发明的ARC能形成适用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM的半导体装置的、稳定的、超精细结构的图形。