Invention Grant
CN1292459C 透明电极膜的形成方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 透明电极膜的形成方法
- Patent Title (English): Method for forming transparent electrode membrane
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Application No.: CN200410063344.3Application Date: 2004-07-08
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Publication No.: CN1292459CPublication Date: 2006-12-27
- Inventor: 宫川拓也
- Applicant: 精工爱普生株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 李香兰
- Priority: 2003-200480 2003.07.23 JP
- Main IPC: H01L21/28
- IPC: H01L21/28 ; H01L21/44 ; H01L21/60 ; G02F1/33 ; H01L29/78
Abstract:
本发明提供一种能够省略只去除形成连接孔时所产生的无用绝缘膜的工序，从而能够简化工序的透明电极膜的形成方法。包括在基础材料(51)上形成绝缘膜(42)的绝缘膜形成步骤；在绝缘膜(42)上形成连接孔(54)的连接孔形成步骤；使作为能够溶解在形成连接孔(54)时连接孔(54)内的基础材料(51)上所形成的无用绝缘膜(99)的含有氟的溶剂的，含有透明导电膜(11)的前体物质的液体(97)覆盖无用绝缘膜(99)而涂布在应当形成透明导电膜(11)的部分上的涂布步骤；以及使透明导电膜(11)的前体物质所溶解的无用绝缘膜(99)的成分挥发的韧化步骤。
Public/Granted literature
- CN1577752A 透明电极膜的形成方法 Public/Granted day:2005-02-09
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IPC分类:
