一种微阵列模具控形柔性抛光方法
摘要:
一种微阵列模具控形柔性抛光方法,为控形柔性抛光。方案一:工件下方安装磁铁,使配制的磁性磨料在磁场力作用下与工件表面贴合并产生接触压力;工件上方安装磁性抛光工具,通过在工具上吸附球形磁铁使其磁化,具备吸附磁性磨料的能力;抛光工具自身旋转,在磁力和离心力的作用下,工具尖端的磁性磨料形成球状抛光头。方案二:采用剪切增稠液,将球头铣刀安装在工件上方,通过球头铣刀的高速旋转,带动剪切增稠液旋转并产生相对的剪切运动,在剪切增稠效应的作用下进行抛光。上述两种方案可以适应微阵列模具特征点的曲率,达到保持微阵列模具面形的目的,可以抛光磁性和非磁性材料,适用范围广。本发明可实现对微阵列模具的高效抛光,克服微阵列模具抛光过程中面形精度和表面质量较低的问题,保持微阵列模原有的面形精度并获得较高的表面质量。
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