发明授权
- 专利标题： 含氟嘧啶化合物及其制造方法
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申请号： CN202080094911.9申请日： 2020-12-16
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公开(公告)号： CN115023421B公开(公告)日： 2024-05-24
- 发明人: 清野淳弥 , 青津理恵 , 小金敬介
- 申请人： 优迈特株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 优迈特株式会社
- 当前专利权人： 优迈特株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 朴今春
- 国际申请： PCT/JP2020/046908 2020.12.16
- 国际公布： WO2021/161648 JA 2021.08.19
- 进入国家日期： 2022-07-28
- 主分类号： C07D403/04
- IPC分类号： C07D403/04 ; C07D405/04 ; C07D417/04 ; C07D471/04 ; A61P9/00 ; A61P13/12
摘要：
本发明提供一种在5位具有含氟取代基、在4位和6位具有取代基、在2位具有含杂原子的稠合杂环作为取代基的新型含氟嘧啶化合物、以及能够简易地制造含氟嘧啶化合物的制造方法。含氟嘧啶化合物由下述通式(1)表示。下述通式(1)中，R表示碳原子数为1～12的烃基，环Z表示含杂原子的稠合杂环。#imgabs0#
公开/授权文献
- CN115023421A 含氟嘧啶化合物及其制造方法 公开/授权日：2022-09-06
