发明公开
- 专利标题： 一种含氟有机物痕量不饱和杂质去除方法
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申请号： CN202111651467.9申请日： 2021-12-30
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公开(公告)号： CN114276213A公开(公告)日： 2022-04-05
- 发明人: 周井森 , 张广第 , 张学良 , 张雪刚 , 王宁 , 李军 , 孙立柱 , 花永紧
- 申请人： 浙江博瑞电子科技有限公司
- 申请人地址： 浙江省衢州市东南时代城3幢839室
- 专利权人： 浙江博瑞电子科技有限公司
- 当前专利权人： 浙江博瑞电子科技有限公司
- 当前专利权人地址： 浙江省衢州市东南时代城3幢839室
- 代理机构： 义乌市宏创专利代理事务所
- 代理商 汪奇
- 主分类号： C07C17/395
- IPC分类号： C07C17/395 ; C07C17/38 ; C07B63/02 ; C07B63/00 ; B01J29/89 ; C07C19/08 ; C07C21/00 ; C07C23/00 ; C07C25/00
摘要：
该发明涉及提纯除杂技术领域，具体关于一种含氟有机物痕量不饱和杂质去除方法；本发明在一种钛硅负载加氢催化剂的催化下将含氟有机物中的痕量不饱和杂质加杂质加氢转化为饱和含氟有机杂质，显著改变杂质的沸点，使得杂质能通过精馏的方法除去；本发明属于催化加氢反应性转化杂质气体与精馏耦合方法，具有产品纯度高，杂质含量极低的优点。
公开/授权文献
- CN114276213B 一种含氟有机物痕量不饱和杂质去除方法 公开/授权日：2024-03-19
