本发明提供一种MIM电容及其制备方法。该方法包括：在半导体衬底上制作电极；形成第一介质层；在第一介质层制作第一通孔和第一段第二通孔，在第一通孔中形成与下极板电极连接的下极板金属连接结构，在第一段第二通孔中形成与上极板电极连接的第一段上极板金属连接结构；在第一介质层上制作下极板；形成第二介质层；在第二介质层制作第二段第二通孔，在第二段第二通孔中淀积金属，形成第二段上极板金属连接结构；在第二介质层上制作上极板。上述制备过程中，干法刻蚀形成通孔的过程中不会刻蚀到上极板和下极板，不会在上极板和下极板的任一个表面沉积等离子体电荷，不会影响金属在通孔内的粘附性，从而提升MIM电容的可靠性。