- 专利标题: 用于测量CVD反应器中的基座的表面温度的装置
-
申请号: CN201980048259.4申请日: 2019-06-14
-
公开(公告)号: CN112513327B公开(公告)日: 2023-08-29
- 发明人: P.S.劳弗 , F.鲁达维特
- 申请人: 艾克斯特朗欧洲公司
- 申请人地址: 德国黑措根拉特
- 专利权人: 艾克斯特朗欧洲公司
- 当前专利权人: 艾克斯特朗欧洲公司
- 当前专利权人地址: 德国黑措根拉特
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 任丽荣
- 国际申请: PCT/EP2019/065721 2019.06.14
- 国际公布: WO2019/243196 DE 2019.12.26
- 进入国家日期: 2021-01-19
- 主分类号: C23C16/458
- IPC分类号: C23C16/458 ; C23C16/46 ; C23C16/52 ; H01L21/67 ; H01L21/687 ; H01L21/66
摘要:
本发明涉及一种在CVD反应器中使用的盖板(4、5),其中,所述盖板具有在圆弧线上延伸的周向边缘,或者其中,多个相同地设计的盖板(4、5)能够以圆形布置,从而所述盖板的沿着圆弧延伸的外边缘相互补充成完整的圆。用于衬底(10)或者承载衬底(10)的衬底固持装置的安置位置位于盖板的面内。按照本发明,盖板具有朝向其两个相互背离地指向的宽侧敞开的开口(15),通过所述开口能够看到基座(2)的上侧(3),从而通过开口(15)能够进行光学的温度测量。
公开/授权文献
- CN112513327A 用于测量CVD反应器中的基座的表面温度的装置 公开/授权日:2021-03-16
IPC分类: