发明公开
- 专利标题: 一种射频模组超薄堆叠工艺
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申请号: CN202010855311.1申请日: 2020-08-24
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公开(公告)号: CN111968944A公开(公告)日: 2020-11-20
- 发明人: 冯光建 , 莫炯炯 , 郭西 , 高群 , 顾毛毛
- 申请人: 浙江集迈科微电子有限公司
- 申请人地址: 浙江省湖州市长兴县经济技术开发区陈王路与太湖路交叉口长兴国家大学科技园二分部北园8号厂房
- 专利权人: 浙江集迈科微电子有限公司
- 当前专利权人: 浙江集迈科微电子有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省湖州市长兴县经济技术开发区陈王路与太湖路交叉口长兴国家大学科技园二分部北园8号厂房
- 代理机构: 无锡市大为专利商标事务所
- 代理商 曹祖良
- 主分类号: H01L21/768
- IPC分类号: H01L21/768 ; H01L21/48 ; H01L23/473 ; H05K1/02 ; H05K3/30
摘要:
本发明提供一种射频模组超薄堆叠工艺,包括:(a)、提供第一硅片,在第一硅片上刻蚀TSV孔,金属充满TSV孔;(b)、在第一硅片上临时键合载片,将第一硅片做减薄处理;(c)、第一硅片刻蚀第一凹槽,嵌入芯片,拆临时键合得到芯片嵌入结构;(d)、第二硅片上形成第二凹槽,第三硅片上形成第三凹槽和第四凹槽;(e)、第二硅片和第三硅片键合得到微流道芯片,微流道芯片贴装在芯片的下方,得到模组结构;(f)、将多层模组结构堆叠得到多层微流道模组;(g)、提供微流道支架;(h)、将多层微流道模组焊接在微流道支架上并固定,得到多层堆叠的射频模组结构。本发明的技术方案能够满足不同层的功率模组的散热需求。
IPC分类: