发明公开
- 专利标题: 基片处理装置、基片处理方法和存储介质
-
申请号: CN202010118877.6申请日: 2020-02-26
-
公开(公告)号: CN111668136A公开(公告)日: 2020-09-15
- 发明人: 鹤崎广太郎 , 山下浩司 , 高山和也 , 金川耕三
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳; 徐飞跃
- 优先权: 2019-042024 2019.03.07 JP
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/02
摘要:
本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。本发明的基片处理装置包括液处理槽、移动机构、释放部和控制部。液处理槽贮存处理液。移动机构使浸渍于液处理槽中的多个基片移动至比处理液的液面靠上方的位置。释放部向多个基片的从液面露出的部分释放有机溶剂的蒸气。控制部使释放部释放有机溶剂的蒸气的释放流量随着多个基片的上升而变化。由此,在通过使有机溶剂的蒸气与附着有处理液的基片接触而使基片干燥的技术中,能够提高处理液与有机溶剂的置换效率。
公开/授权文献
- CN111668136B 基片处理装置、基片处理方法和存储介质 公开/授权日:2024-03-22
IPC分类: