基片处理装置、基片处理方法和存储介质
摘要:
本发明提供一种基片处理装置、基片处理方法和存储介质。本发明的基片处理装置包括液处理槽、移动机构、释放部和控制部。液处理槽贮存处理液。移动机构使浸渍于液处理槽中的多个基片移动至比处理液的液面靠上方的位置。释放部向多个基片的从液面露出的部分释放有机溶剂的蒸气。控制部使释放部释放有机溶剂的蒸气的释放流量随着多个基片的上升而变化。由此,在通过使有机溶剂的蒸气与附着有处理液的基片接触而使基片干燥的技术中,能够提高处理液与有机溶剂的置换效率。
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