发明公开
- 专利标题: 一种超快速低损碳化硅衬底抛光液及其制备方法
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申请号: CN202010116746.4申请日: 2020-02-25
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公开(公告)号: CN111303772A公开(公告)日: 2020-06-19
- 发明人: 徐伟 , 魏汝省 , 李斌 , 王英民 , 何超 , 侯晓蕊 , 毛开礼 , 马康夫
- 申请人: 山西烁科晶体有限公司
- 申请人地址: 山西省太原市综改示范区太原唐槐园区唐槐路5号
- 专利权人: 山西烁科晶体有限公司
- 当前专利权人: 山西烁科晶体有限公司
- 当前专利权人地址: 山西省太原市综改示范区太原唐槐园区唐槐路5号
- 代理机构: 太原高欣科创专利代理事务所
- 代理商 崔雪花; 冷锦超
- 主分类号: C09G1/02
- IPC分类号: C09G1/02 ; H01L21/04 ; H01L21/306 ; H01L33/00
摘要:
本发明涉及化学机械抛光技术领域,具体为一种超快速低损碳化硅衬底抛光液及其制备方法,包括添加剂和抛光基液,抛光基液包括纳米金刚石微粉、强氧化剂,稳定剂等;添加剂按包括一定重量比的石墨烯、碳化钨、硅胶和二氧化钛;将添加剂各成分研磨成0.1-0.35μm的颗粒,将石墨烯、碳化钨和二氧化钛混合加热后加入硅胶颗粒继续研磨;之后将其加入到温度为30-39℃的抛光基液中混合;本发明所述添加剂对抛光基液具有平衡抛光时摩擦力作用,使碳化硅衬底在高速抛光的过程中,不会因为抛光速度加快而出现划痕或粗糙度加剧的问题,实现高速抛光的同时,降低表面粗糙度,减少划痕的目的,且整个精加工过程,加工精度高、自动化程度高。