发明公开
- 专利标题: 卷式GaN基半导体器件及其制备方法
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申请号: CN202010319858.X申请日: 2020-04-22
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公开(公告)号: CN111223926A公开(公告)日: 2020-06-02
- 发明人: 马飞 , 冯光建 , 黄雷
- 申请人: 浙江集迈科微电子有限公司
- 申请人地址: 浙江省湖州市长兴县经济技术开发区陈王路与太湖路交叉口长兴国家大学科技园二分部北园8号厂房
- 专利权人: 浙江集迈科微电子有限公司
- 当前专利权人: 浙江集迈科微电子有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省湖州市长兴县经济技术开发区陈王路与太湖路交叉口长兴国家大学科技园二分部北园8号厂房
- 代理机构: 上海光华专利事务所
- 代理商 贺妮妮
- 主分类号: H01L29/778
- IPC分类号: H01L29/778 ; H01L23/473 ; H01L21/335
摘要:
本发明提供一种卷式GaN基半导体器件及其制备方法,该器件包括:第二半导体衬底;键合材料层;中空且封闭的卷式管状结构,由外向内包括:具有压应力及张应力的两层SiN层、第二AlyGa1-yN层、GaN层及第一AlxGa1-xN层,0
公开/授权文献
- CN111223926B 卷式GaN基半导体器件及其制备方法 公开/授权日:2020-07-24
IPC分类: