掩模组件和用于制造芯片封装件的方法
摘要:
依次提供第一掩模和第二掩模以实施多步曝光和显影工艺。通过第一掩模和第二掩模的适当的重叠设计,形成具有可接受重叠偏移的导电布线。本发明的实施例还涉及掩模组件和用于制造芯片封装件的方法。
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