发明授权
- 专利标题: 掩模组件和用于制造芯片封装件的方法
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申请号: CN201810460875.8申请日: 2018-05-15
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公开(公告)号: CN109427658B公开(公告)日: 2020-11-20
- 发明人: 陈洁 , 陈宪伟 , 刘醇鸿 , 陈英儒
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 62/552,401 2017.08.31 US
- 主分类号: H01L21/768
- IPC分类号: H01L21/768 ; G03F9/00
摘要:
依次提供第一掩模和第二掩模以实施多步曝光和显影工艺。通过第一掩模和第二掩模的适当的重叠设计,形成具有可接受重叠偏移的导电布线。本发明的实施例还涉及掩模组件和用于制造芯片封装件的方法。
公开/授权文献
- CN109427658A 掩模组件和用于制造芯片封装件的方法 公开/授权日:2019-03-05
IPC分类: